投影测量系统中高质量灰度正弦光栅的研制
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 致谢 | 第8-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-17页 |
| ·引言 | 第14页 |
| ·光学三维测量技术 | 第14-15页 |
| ·选题背景和研究内容 | 第15-17页 |
| 第二章 光栅投影三维测量的基本原理 | 第17-22页 |
| ·光栅投影三维测量系统组成 | 第17页 |
| ·光栅投影三维测量系统原理 | 第17-20页 |
| ·格雷码技术简述 | 第17-18页 |
| ·相移技术原理 | 第18-20页 |
| ·正弦投影条纹的的产生和分析 | 第20-21页 |
| ·制作正弦光栅模板的分析 | 第21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第三章 灰度正弦光栅元件的制作研究 | 第22-25页 |
| ·投影系统中光栅的制作要求与分析 | 第22-23页 |
| ·几种制作正弦光栅方法的分析 | 第23-24页 |
| ·双光束直接干涉法 | 第23页 |
| ·洛埃镜法 | 第23-24页 |
| ·马赫-曾德光路法 | 第24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第四章 空间滤波成像法正弦光栅元件制作 | 第25-32页 |
| ·阿贝成像原理 | 第25页 |
| ·空间频率滤波系统 | 第25-26页 |
| ·制作光栅元件的光路及原理 | 第26-29页 |
| ·光路的参数确定与讨论 | 第29页 |
| ·实验结果 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第五章 消激光散斑灰度正弦光栅制作研究 | 第32-36页 |
| ·激光散斑形成的机理 | 第32页 |
| ·散斑的分类 | 第32-33页 |
| ·散斑的消除方法 | 第33-34页 |
| ·实验结果与分析 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 第六章 实现线性记录和线性显影的实验 | 第36-52页 |
| ·正弦性和反衬度检测原理 | 第36-39页 |
| ·全息干板感光介质的特性曲线分析 | 第39-42页 |
| ·D-lgH_v曲线 | 第39-40页 |
| ·τ-H_v曲线 | 第40-42页 |
| ·实现线性记录的方法和光路 | 第42-44页 |
| ·线性显影方法和实验 | 第44-50页 |
| ·背景光对正弦曲线记录的影响 | 第44-46页 |
| ·激光和背景光的曝光量对正弦性的影响 | 第46-49页 |
| ·显影液浓度对正弦性的影响 | 第49-50页 |
| ·实验结论 | 第50-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第七章 结论与展望 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 附录 | 第56-61页 |
| 附录一 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第56页 |
| 附录二 程序一 | 第56-57页 |
| 附录三 程序二 | 第57页 |
| 附录四 程序三 | 第57-61页 |
