| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-27页 |
| ·选题背景及意义 | 第11-12页 |
| ·纳米材料的概述 | 第12-14页 |
| ·纳米材料的结构及物理特性 | 第12页 |
| ·纳米材料的制备及表征 | 第12-13页 |
| ·纳米材料的应用 | 第13-14页 |
| ·氮化硅纳米材料的研究进展 | 第14-23页 |
| ·氮化硅的基本性质 | 第14-15页 |
| ·氮化硅纳米材料的制备 | 第15-20页 |
| ·氮化硅纳米材料的性能研究 | 第20-23页 |
| ·二氧化硅纳米材料的研究进展 | 第23-26页 |
| ·本论文的研究内容 | 第26-27页 |
| 第2章 研究内容与研究方法 | 第27-30页 |
| ·实验设备及原料 | 第27页 |
| ·实验方法 | 第27-28页 |
| ·测试仪器及表征方法 | 第28-30页 |
| 第3章 束状SI_3N_4纳米线研究 | 第30-35页 |
| ·前言 | 第30页 |
| ·实验方案 | 第30页 |
| ·结果与讨论 | 第30-34页 |
| ·组成与结构 | 第30-33页 |
| ·化学反应历程及生长机制 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第4章 Y 型枝状SI_3N_4纳米线研究 | 第35-41页 |
| ·前言 | 第35页 |
| ·实验方案 | 第35-36页 |
| ·结果与讨论 | 第36-40页 |
| ·组成与结构 | 第36-39页 |
| ·化学反应历程及生长机制 | 第39-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第5章 网络枝状SI_3N_4纳米线研究 | 第41-48页 |
| ·前言 | 第41页 |
| ·实验方案 | 第41-42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-47页 |
| ·组成与结构 | 第42-45页 |
| ·化学反应历程及生长机制 | 第45-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第6章 SI_3N_4纳米线阵列研究 | 第48-54页 |
| ·前言 | 第48-49页 |
| ·实验方案 | 第49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-53页 |
| ·组成与结构 | 第49-52页 |
| ·化学反应历程及生长机制 | 第52-53页 |
| ·本章小结 | 第53-54页 |
| 第7章 SI_3N_4/SIO_2同轴纳米电缆阵列研究 | 第54-62页 |
| ·前言 | 第54-55页 |
| ·实验方案 | 第55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-60页 |
| ·组成与结构 | 第55-59页 |
| ·化学反应历程及生长机制 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 第8章 团簇状SIO_2非晶纳米线研究 | 第62-66页 |
| ·前言 | 第62页 |
| ·实验方案 | 第62-63页 |
| ·结果与讨论 | 第63-65页 |
| ·组成与结构 | 第63-64页 |
| ·化学反应历程及生长机制 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第9章 结论 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-78页 |
| 个人简历、在学期间的研究成果 | 第78-79页 |