| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-24页 |
| ·ZnO 的基本特性 | 第8-10页 |
| ·ZnO 薄膜的应用 | 第10-12页 |
| ·ZnO 薄膜的生长方法简介 | 第12-15页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第13页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第13页 |
| ·有机金属化学气相沉积(MOCVD) | 第13-14页 |
| ·磁控溅射 | 第14页 |
| ·溶胶一凝胶(sol-gel)法 | 第14页 |
| ·原子层外延（ALE） | 第14-15页 |
| ·ZnO 薄膜的研究进展（包括掺杂） | 第15-17页 |
| ·ZnO 的非线性性能研究 | 第17页 |
| ·本文的研究工作 | 第17-18页 |
| 结论 | 第18-19页 |
| 参考文献 | 第19-24页 |
| 第二章 MOCVD 方法简介与ZnO 薄膜的表征 | 第24-35页 |
| ·MOCVD 系统 | 第24-26页 |
| ·MOCVD 简介 | 第24-25页 |
| ·MOCVD 的构型 | 第25-26页 |
| ·MOCVD 法制备ZnO 薄膜 | 第26页 |
| ·反应源的选择 | 第26页 |
| ·A1_2O_3 衬底上生长ZnO 薄膜 | 第26页 |
| ·ZnO 薄膜的表面形貌表征 | 第26-28页 |
| ·ZnO 薄膜的晶体结构特征 | 第28-29页 |
| ·ZnO 薄膜的发光性能表征 | 第29-31页 |
| 结论 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-35页 |
| 第三章A1_2O_3衬底上生长ZnO 薄膜及其生长条件的影响 | 第35-46页 |
| ·ZnO 薄膜生长中各种衬底使用情况简介 | 第35-36页 |
| ·A1_2O_3 衬底上生长ZnO 薄膜及其性质 | 第36-37页 |
| ·生长条件的影响 | 第37-42页 |
| 结论 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-46页 |
| 第四章 ZnO 的非线性性能研究 | 第46-67页 |
| ·ZnO 的非线性性能简介 | 第46页 |
| ·ZnO 的二阶非线性性能研究 | 第46-52页 |
| ·ZnO 的三阶非线性性能研究 | 第52-64页 |
| ·Z 扫描方法 | 第52-60页 |
| ·利用三次谐波的产生研究ZnO 三阶非线性特性 | 第60-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-67页 |
| 第五章 掺Mg 、Cd 后ZnO 特性研究 | 第67-98页 |
| ·掺Mg 对ZnO 薄膜的结构、光学性能的影响 | 第67-70页 |
| ·掺Cd 对ZnO 薄膜的结构、光学性能的影响 | 第70-73页 |
| ·掺Ce 对ZnO 薄膜发光性能影响 | 第73-93页 |
| ·Sol-gel 法制备ZnO 薄膜 | 第73-75页 |
| ·稀土Ce 掺杂ZnO 薄膜的制备 | 第75页 |
| ·样品的测试与表征 | 第75-76页 |
| ·实验结果 | 第76-93页 |
| 结论 | 第93-95页 |
| 参考文献 | 第95-98页 |
| 第六章 总结 | 第98-99页 |
| ·本文所作的工作 | 第98页 |
| ·未来工作展望 | 第98-99页 |
| 致谢 | 第99-100页 |
| 在学期间公开发表论文及著作情况 | 第100页 |