摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-12页 |
第一章绪论 | 第12-22页 |
1.1前言 | 第12-13页 |
1.2光催化机理 | 第13-15页 |
1.3光催化的应用 | 第15-17页 |
1.3.1光催化制氢 | 第15-16页 |
1.3.2光催化降解 | 第16页 |
1.3.3光催化合成 | 第16-17页 |
1.4三氧化钨光催化半导体材料的研究进展 | 第17-20页 |
1.4.1提高三氧化钨光催化半导体材料光催化活性的方法和途径 | 第17-20页 |
1.5选题依据、意义及研究内容 | 第20-22页 |
第二章实验部分 | 第22-25页 |
2.1实验药品 | 第22页 |
2.2实验仪器 | 第22页 |
2.3光催化剂性能评价 | 第22-23页 |
2.4光催化剂的表征手段 | 第23-25页 |
2.4.1扫描电子显微镜(SEM)及能谱表征(EDS) | 第23页 |
2.4.2透射电子显微镜(TEM) | 第23页 |
2.4.3X-射线衍射仪(XRD) | 第23-24页 |
2.4.4X-射线光电子能谱(XPS) | 第24页 |
2.4.5紫外-可见光漫反射能谱(UV-visDRS) | 第24页 |
2.4.6荧光光谱(PL) | 第24页 |
2.4.7瞬态光电流测试及阻抗实验 | 第24页 |
2.4.8N2气的脱附吸附实验(BET) | 第24-25页 |
第三章多棱形WO3/Ag2CO3异质结型光催化剂的制备及光催化性能的研究 | 第25-44页 |
3.1选题依据、研究内容和意义 | 第25页 |
3.2实验部分 | 第25-26页 |
3.2.1多棱型三氧化钨的制备 | 第25-26页 |
3.2.2三氧化钨和碳酸银复合材料的制备 | 第26页 |
3.3结果与讨论 | 第26-43页 |
3.3.1XRD物相分析 | 第26-28页 |
3.3.2扫描电镜形貌分析(SEM) | 第28-29页 |
3.3.3透射电镜形貌分析(TEM) | 第29-30页 |
3.3.4BET物理吸附实验 | 第30-31页 |
3.3.5紫外-可见漫反射吸收光谱(UV-visDRS) | 第31-32页 |
3.3.6X-射线光电子能谱分析 | 第32-33页 |
3.3.7光催化性能测试 | 第33-38页 |
3.3.8催化过程中活性自由基捕获实验 | 第38-39页 |
3.3.9电极的制备和电化学性能测试 | 第39-40页 |
3.3.10荧光光致发光光谱 | 第40页 |
3.3.11光催化机理分析 | 第40-43页 |
3.4本章小结 | 第43-44页 |
第四章多棱型三氧化钨/蝴蝶型钼酸银p-n结型复合光催化剂的制备及光催化性能研究 | 第44-67页 |
4.1引言 | 第44-45页 |
4.2实验部分 | 第45页 |
4.2.1多棱形三氧化钨的制备 | 第45页 |
4.2.2多棱型三氧化钨和蝴蝶型钼酸银复合材料的制备 | 第45页 |
4.3结果与讨论 | 第45-66页 |
4.3.1X-射线衍射(XRD) | 第45-47页 |
4.3.2比表面积分析(BET) | 第47-48页 |
4.3.3扫描电镜(SEM)和透射电镜(TEM)分析 | 第48-51页 |
4.3.4紫外-可见漫反射吸收光谱分析(UV-VisDRS) | 第51-52页 |
4.3.5UPS测试(紫外光电子能谱) | 第52-53页 |
4.3.6XPS测试 | 第53-54页 |
4.3.7光致发光谱(PL)和荧光光谱 | 第54-55页 |
4.3.8光电流分析 | 第55-56页 |
4.3.9光催化性能测试 | 第56-59页 |
4.3.10催化剂的循环实验 | 第59-61页 |
4.3.11催化过程中活性自由基捕获实验 | 第61-63页 |
4.3.12莫特肖特基测试 | 第63-64页 |
4.3.13光催化机理分析 | 第64-66页 |
4.4结论 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-75页 |
攻读硕士期间发表的学术论文 | 第75-76页 |
致谢 | 第76页 |