微纳光纤直写技术研究
| 致谢 | 第1-7页 |
| 摘要 | 第7-9页 |
| Abstract | 第9-13页 |
| 第1章 绪论 | 第13-41页 |
| ·直接写入技术概述 | 第13-24页 |
| ·电子束直写技术 | 第13-15页 |
| ·激光直写技术 | 第15-18页 |
| ·近场直写技术 | 第18-22页 |
| ·飞秒激光直写技术 | 第22-24页 |
| ·微纳光纤研究进展 | 第24-30页 |
| ·微纳光纤 | 第24-26页 |
| ·基于微纳光纤的器件 | 第26-30页 |
| ·论文的研究内容和创新点 | 第30-34页 |
| ·论文的研究背景和意义 | 第30-31页 |
| ·论文的结构安排和主要内容 | 第31-32页 |
| ·论文的创新点 | 第32-34页 |
| 参考文献 | 第34-41页 |
| 第2章 微纳光纤直写的光场理论 | 第41-62页 |
| ·微纳光纤的传输理论 | 第41-47页 |
| ·微纳光纤的单模传输条件 | 第41-43页 |
| ·微纳光纤的单模传输电场分布 | 第43-46页 |
| ·微纳光纤的单模传输能量分布 | 第46-47页 |
| ·微纳光纤的端面光场理论 | 第47-53页 |
| ·微纳光纤的端面输出特性 | 第48-51页 |
| ·微纳光纤的端面反射特性 | 第51-53页 |
| ·微纳光纤直写模型及其光场理论 | 第53-59页 |
| ·微纳光纤直写技术的原理模型 | 第53-54页 |
| ·微纳光纤与光刻胶层的光能耦合 | 第54-56页 |
| ·光刻胶层中的光能分布 | 第56-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 第3章 微纳光纤直写系统及相关工艺 | 第62-83页 |
| ·微纳光纤直写系统 | 第62-67页 |
| ·微纳光纤直写系统的总体结构 | 第62-64页 |
| ·直写系统的运动执行机构 | 第64-66页 |
| ·直写系统的视频监控装置 | 第66-67页 |
| ·直写系统的操作步骤和运行过程 | 第67-74页 |
| ·直写系统的用户操作界面 | 第67-69页 |
| ·基片的调平 | 第69-70页 |
| ·基片与微纳光纤的微触对准 | 第70-72页 |
| ·系统的直写动作流程 | 第72-74页 |
| ·光刻胶的涂覆和显影 | 第74-78页 |
| ·光刻胶AZ(?)MIR~(TM)701 | 第74-76页 |
| ·光刻胶的涂覆和显影 | 第76-78页 |
| ·直写用微纳光纤的制备 | 第78-80页 |
| ·微纳光纤的制备简介 | 第78页 |
| ·制备直写用微纳光纤的两步法 | 第78-80页 |
| ·本章小结 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-83页 |
| 第4章 微纳光纤直写的曝光模型和实验结果 | 第83-98页 |
| ·微纳光纤直写的曝光模型 | 第83-87页 |
| ·实验结果及分析 | 第87-96页 |
| ·微纳光纤直写实验中的常见问题 | 第87-90页 |
| ·微纳光纤直写的线条质量与线宽控制 | 第90-92页 |
| ·微纳光纤直写的最小线宽 | 第92-94页 |
| ·复杂图形的微纳光纤直写 | 第94-96页 |
| ·本章小结 | 第96-97页 |
| 参考文献 | 第97-98页 |
| 第5章 表面等离子体微纳光纤直写初步研究 | 第98-103页 |
| ·表面等离子体光刻简介 | 第98-99页 |
| ·表面等离子体微纳光纤直写的方案和理论 | 第99-101页 |
| ·本章小结 | 第101-102页 |
| 参考文献 | 第102-103页 |
| 第6章 总结与展望 | 第103-106页 |
| ·论文总结 | 第103-105页 |
| ·未来工作展望 | 第105-106页 |
| 攻读学位期间的科研成果 | 第106页 |
