摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-10页 |
第1章 绪论 | 第13-43页 |
1.1 引言 | 第13-14页 |
1.2 光解水研究背景及意义 | 第14-29页 |
1.2.1 光解水的基本原理 | 第14-16页 |
1.2.2 影响光解水活性的因素 | 第16-21页 |
1.2.3 提高光解水性能的途径 | 第21-25页 |
1.2.4 光解水体系的分类 | 第25-29页 |
1.3 二维半导体氮化碳材料的发展历史简要 | 第29-31页 |
1.3.1 氮化碳的晶体结构及平面内纹理特征 | 第29-30页 |
1.3.2 氮化碳的热稳定性 | 第30页 |
1.3.3 氮化碳的化学稳定性 | 第30页 |
1.3.4 氮化碳的光吸收功能及能带结构 | 第30-31页 |
1.4 二维氮化碳在光解水领域的应用 | 第31-40页 |
1.4.1 模板法制备介孔状氮化碳 | 第32-34页 |
1.4.2 超薄氮化碳纳米片 | 第34-35页 |
1.4.3 元素掺杂的二维氮化碳 | 第35-37页 |
1.4.4 有机物共聚合成的氮化碳 | 第37-39页 |
1.4.5 与半导体复合的氮化碳 | 第39-40页 |
1.5 本论文的选题背景和主要研究内容 | 第40-43页 |
第2章 二维平面异质结(C_(ring))-C_3N_4的光解水性能研究 | 第43-57页 |
2.1 引言 | 第43-45页 |
2.2 样品合成策略及基本表征 | 第45-49页 |
2.3 电子特性及结构表征 | 第49-51页 |
2.3.1 同步辐射X-射线吸收近边结构 | 第49-50页 |
2.3.2 同步辐射紫外光电子能谱 | 第50-51页 |
2.4 光解水活性测试与分析 | 第51-54页 |
2.5 结果与讨论 | 第54-55页 |
2.6 本章小结 | 第55-57页 |
第3章 铂单原子修饰g-C_3N_4平面实现光解水性能的研究 | 第57-69页 |
3.1 引言 | 第57-59页 |
3.2 样品合成策略 | 第59页 |
3.2.1 Pt~Ⅱ-C_3N_4材料的合成 | 第59页 |
3.2.2 Pt NP-C_3N_4材料的合成 | 第59页 |
3.3 样品表征 | 第59-60页 |
3.3.1 基本表征 | 第59-60页 |
3.3.2 X射线吸收精细结构表征 | 第60页 |
3.4 光解水活性测试与分析 | 第60-62页 |
3.5 结果与讨论 | 第62-67页 |
3.6 本章小结 | 第67-69页 |
第4章 表面羟基化氮化碳光解水产氢性能研究 | 第69-85页 |
4.1 引言 | 第70-72页 |
4.2 样品基本表征 | 第72页 |
4.3 电子特性及结构表征 | 第72-73页 |
4.3.1 X射线吸收近边结构表征 | 第73页 |
4.4 光解水活性测试 | 第73-74页 |
4.5 H_2O_2相关的检测与验证 | 第74页 |
4.6 结果与讨论 | 第74-84页 |
4.6.1 概念性设计指导实验合成策略 | 第74-78页 |
4.6.2 光功能模块及其在光解水制氢中的催化作用 | 第78-80页 |
4.6.3 全解水体系中产生H_2和O_2的选择性和必要性 | 第80-84页 |
4.7 本章小结 | 第84-85页 |
参考文献 | 第85-97页 |
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第97-99页 |
致谢 | 第99-100页 |