摘要 | 第3-4页 |
Abstract | 第4-5页 |
第一章 绪论 | 第8-20页 |
1.1 引言 | 第8-9页 |
1.2 甲烷化工艺技术现状 | 第9-12页 |
1.2.1 托普索公司的TREMP工艺 | 第9-10页 |
1.2.2 戴维公司甲烷化工艺技术(CRG技术) | 第10页 |
1.2.3 鲁奇工艺 | 第10页 |
1.2.4 煤直接甲烷化制天然气工艺 | 第10-11页 |
1.2.5 国内甲烷化工艺现状 | 第11-12页 |
1.3 合成气甲烷化反应及影响因素 | 第12-13页 |
1.4 甲烷化催化剂研究状况 | 第13-15页 |
1.4.1 活性组分 | 第13-14页 |
1.4.2 载体 | 第14页 |
1.4.3 助剂 | 第14-15页 |
1.5 催化剂的制备方法 | 第15-16页 |
1.5.1 沉淀法 | 第15页 |
1.5.2 浸渍法 | 第15页 |
1.5.3 机械混合法 | 第15-16页 |
1.6 催化剂失活 | 第16-17页 |
1.6.1 积碳 | 第16页 |
1.6.2 烧结 | 第16页 |
1.6.3 中毒、流失及磨损 | 第16-17页 |
1.7 甲烷化反应机理及动力学 | 第17-18页 |
1.8 本论文的立题依据和研究内容 | 第18-20页 |
1.8.1 立题依据 | 第18页 |
1.8.2 论文的研究内容 | 第18-20页 |
第二章 实验部分 | 第20-26页 |
2.1 主要试剂和表征用气 | 第20-21页 |
2.2 主要实验设备 | 第21页 |
2.3 催化剂制备 | 第21-22页 |
2.4 催化剂性能评价 | 第22-23页 |
2.5 催化剂的表征方法 | 第23-26页 |
2.5.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第23页 |
2.5.2 N_2-物理吸脱附实验(N_2-physisorption) | 第23页 |
2.5.3 H_2-程序升温还原(H_2-TPR) | 第23页 |
2.5.4 O_2-程序升温氧化(O_2-TPO) | 第23-24页 |
2.5.5 H_2脉冲化学吸附(H_2 Pulse Chemisorption) | 第24页 |
2.5.6 NH_3-程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第24页 |
2.5.7 紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS) | 第24页 |
2.5.8 拉曼光谱(Raman Spectroscopy) | 第24页 |
2.5.9 透射电镜分析(TEM) | 第24-25页 |
2.5.10 扫描电镜分析(SEM) | 第25-26页 |
第三章 Ni/Al_2O_3及其改性催化剂的性能考察 | 第26-36页 |
3.1 引言 | 第26页 |
3.2 Ni/Al_2O_3及其改性催化剂的制备 | 第26-27页 |
3.3 实验结果和讨论 | 第27-34页 |
3.3.1 N_2物理吸附表征 | 第27-29页 |
3.3.2 XRD分析 | 第29-31页 |
3.3.3 H_2-TPR表征 | 第31-32页 |
3.3.4 H_2-化学吸附 | 第32-33页 |
3.3.5 催化剂活性与稳定性评价 | 第33-34页 |
3.4 小结 | 第34-36页 |
第四章 Ni/xSrO-Al_2O_3催化CO甲烷化性能研究 | 第36-51页 |
4.1 引言 | 第36页 |
4.2 Ni/xSrO-Al_2O_3样品的合成 | 第36页 |
4.3 实验结果和讨论 | 第36-50页 |
4.3.1 N_2物理吸附表征(N_2-physisorption) | 第36-40页 |
4.3.2 XRD分析 | 第40-41页 |
4.3.3 紫外-可见光漫反射光谱分析(UV-Vis DRS) | 第41-42页 |
4.3.4 H_2-TPR表征 | 第42-43页 |
4.3.5 H_2-化学吸附 | 第43-44页 |
4.3.6 TEM表征与分析 | 第44-46页 |
4.3.7 活性评价及稳定性评价 | 第46-48页 |
4.3.8 积碳分析 | 第48-50页 |
4.4 小结 | 第50-51页 |
第五章 Ni-Fe/MgO-La_2O_3-Al_2O_3甲烷化性能研究 | 第51-62页 |
5.1 引言 | 第51页 |
5.2 Ni-Fe/MgO-La_2O_3-Al_2O_3催化剂的合成 | 第51-52页 |
5.3 结果与讨论 | 第52-60页 |
5.3.1 催化剂活性及稳定性评价 | 第52-55页 |
5.3.2 反应后样品的积碳分析 | 第55-57页 |
5.3.3 催化剂性能与结构关联分析 | 第57-60页 |
5.4 小结 | 第60-62页 |
结论 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-70页 |
致谢 | 第70-71页 |
个人简历 | 第71页 |