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小麦表皮蜡质抑制基因的精细定位与物理图谱构建

摘要第4-5页
Abstract第5页
第一章 文献综述第8-37页
    1.1 植物表皮蜡质研究进展第8-19页
    1.2 小麦基因组研究现状第19-24页
    1.3 图位克隆技术在植物中的研究进展第24-29页
    1.4 比较基因组学研究在小麦基因定位和克隆中的应用第29-34页
    1.5 立题依据和研究内容第34-37页
第二章 材料与方法第37-50页
    2.1 实验材料第37页
    2.2 实验方法第37-50页
第三章 结果与分析第50-81页
    3.1 小麦表皮蜡质抑制基因Iw2的精细定位第50-51页
    3.2 小麦表皮蜡质抑制基因Iw2的物理图谱初构建与遗传图谱构建第51-62页
    3.3 表皮蜡质抑制基因Iw1的物理图谱初构建第62-66页
    3.4 基因Iw1和Iw2所在染色体区间的序列分析第66-68页
    3.5 表皮蜡质抑制基因Iw1的遗传连锁图谱加密第68-69页
    3.6 基因Iw1的高密度遗传连锁图谱与物理图谱的整合第69-70页
    3.7 Iw1和Iw2候选基因的预测分析第70-76页
    3.8 EMS诱变构建表皮蜡质的突变体库第76-81页
第四章 讨论第81-88页
    4.1 普通小麦D基因组与B基因组的遗传多样性比较第81页
    4.2 小麦蜡质合成抑制基因Iw1和Iw2的比较定位第81-83页
    4.3 比较基因组学在小麦基因定位和克隆中的应用以及局限性第83-86页
    4.4 基因Iw1和Iw2所在染色体区段的序列比较分析第86-88页
第五章 结论第88-90页
参考文献第90-112页
致谢第112-114页
作者简历第114页

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