| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-15页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·真空灭弧室的发展历史、现状及发展趋势 | 第10-13页 |
| ·真空灭弧室的发展历史与现状 | 第10-12页 |
| ·真空灭弧室的发展趋势 | 第12-13页 |
| ·本课题的研究内容 | 第13-14页 |
| ·本课题工作的创新点与难点 | 第14-15页 |
| ·本课题的创新点 | 第14页 |
| ·本课题的难点 | 第14-15页 |
| 第二章 真空灭弧室磁场控制技术 | 第15-27页 |
| ·真空电弧 | 第15-16页 |
| ·真空电弧的阴极与阳极 | 第15-16页 |
| ·真空电弧的形态 | 第16页 |
| ·真空中的磁场技术 | 第16-19页 |
| ·真空灭弧室的横向磁场触头结构 | 第17-18页 |
| ·真空灭弧室的纵向磁场触头结构 | 第18-19页 |
| ·纵向磁场对熄灭电弧的影响 | 第19-27页 |
| ·纵向磁场对电弧的作用 | 第19-23页 |
| ·纵向磁场的大小对开断性能的影响 | 第23-24页 |
| ·临界纵磁场的计算 | 第24-25页 |
| ·涡流对纵向磁场与剩余磁场的影响 | 第25-27页 |
| 第三章 真空灭弧室结构及其设计参数 | 第27-35页 |
| ·真空灭弧室的基本结构 | 第27-29页 |
| ·真空灭弧室触头结构中的设计参数 | 第29-31页 |
| ·真空灭弧室触头材料的选择 | 第31-32页 |
| ·新型不对称线圈式纵向磁场触头结构 | 第32-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 新型不对称式纵向磁场触头结构的三维磁场仿真 | 第35-52页 |
| ·工程电磁场与有限元分析方法 | 第35-37页 |
| ·新型不对称式1/3匝线圈纵向磁场触头结构的磁场分析 | 第37-47页 |
| ·静态场分析 | 第37-39页 |
| ·谐波场分析 | 第39-46页 |
| ·瞬态场分析 | 第46-47页 |
| ·触头结构的参数变化对纵向磁场的影响 | 第47-49页 |
| ·线圈直径的变化 | 第47-48页 |
| ·线圈厚度的变化 | 第48页 |
| ·线圈高度的变化 | 第48-49页 |
| ·几种线圈方式的比较 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第五章 新型结构的改进方案及三维磁场仿真 | 第52-66页 |
| ·新型不对称结构的改进方案1─加铁心 | 第52-57页 |
| ·电流峰值时的纵向磁场分布 | 第53-56页 |
| ·电流过零时剩余磁场分布 | 第56页 |
| ·滞后时间分布 | 第56-57页 |
| ·新型不对称结构的改进方案2─改进静触头侧的线圈结构 | 第57-64页 |
| ·电流峰值时纵向磁场的分布 | 第58-61页 |
| ·电流过零时剩余磁场分布 | 第61-63页 |
| ·滞后时间的分布 | 第63-64页 |
| ·改进两种结构与原新型结构的仿真结果对比 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 在学研究成果 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
