| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 缩略词表 | 第10-11页 |
| 第一章 文献综述 | 第11-23页 |
| 1.1 硫辛酸的抗氧化作用 | 第11-12页 |
| 1.2 分子印迹技术及其应用 | 第12-18页 |
| 1.2.1 分子印迹技术概述 | 第12-14页 |
| 1.2.2 经典分子印迹技术 | 第14-15页 |
| 1.2.3 温敏性分子印迹技术 | 第15-18页 |
| 1.3 计算化学在MIT分析中的应用 | 第18-20页 |
| 1.3.1 分子动力学在MIT中的应用 | 第19页 |
| 1.3.2 分子对接在MIT中的应用 | 第19页 |
| 1.3.3 量子化学在MIT中的应用 | 第19-20页 |
| 1.4 分子印迹膜(MIM)技术 | 第20-22页 |
| 1.4.1 分子印迹膜技术概述 | 第20-21页 |
| 1.4.2 分子印迹膜的分类 | 第21-22页 |
| 1.5 研究的意义及主要内容 | 第22-23页 |
| 第二章 硫辛酸分子印迹自组装体系及其弱相互作用的理论研究 | 第23-35页 |
| 2.1 试验设备与方法 | 第24-26页 |
| 2.1.1 试验设备 | 第24页 |
| 2.1.2 理论计算方法 | 第24页 |
| 2.1.3 活性位点预测 | 第24-25页 |
| 2.1.4 结合能的计算 | 第25页 |
| 2.1.5 用RDG函数等值面显示弱相互作用区域 | 第25-26页 |
| 2.1.6 溶解自由能的计算 | 第26页 |
| 2.2 结果与分析 | 第26-34页 |
| 2.2.1 ALA的分子结构优化及计算方法的选择 | 第26-27页 |
| 2.2.2 反应位点预测及功能单体筛选 | 第27-30页 |
| 2.2.3 分子印迹预组装体系的结合能分析 | 第30-31页 |
| 2.2.4 分子印迹预组装体系的弱相互作用图形化分析 | 第31-33页 |
| 2.2.5 溶剂选择的分析 | 第33-34页 |
| 2.3 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 温敏性硫辛酸分子印迹聚合物的制备及表征 | 第35-48页 |
| 3.1 试验材料与方法 | 第36-38页 |
| 3.1.1 试验试剂 | 第36页 |
| 3.1.2 试验仪器与设备 | 第36页 |
| 3.1.3 试验方法 | 第36-38页 |
| 3.2 结果与分析 | 第38-46页 |
| 3.2.1 MIPs和NIPs的微观形貌分析 | 第38-39页 |
| 3.2.2 ALA-MIPs中红外光谱分析 | 第39-40页 |
| 3.2.3 印迹比例对ALA-MIPs吸附能力的影响 | 第40-42页 |
| 3.2.4 ALA-MIPs等温吸附性能 | 第42-44页 |
| 3.2.5 ALA-MIPs的温敏性能研究 | 第44-45页 |
| 3.2.6 ALA-MIPs特异性吸附分析 | 第45-46页 |
| 3.3 本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 温敏性硫辛酸分子印迹抗氧化膜的制备及研究 | 第48-62页 |
| 4.1 材料与方法 | 第48-51页 |
| 4.1.1 材料与试剂 | 第48-49页 |
| 4.1.2 仪器与设备 | 第49页 |
| 4.1.3 试验方法 | 第49-51页 |
| 4.2 结果与分析 | 第51-61页 |
| 4.2.1 成膜材料和溶剂的筛选 | 第51-52页 |
| 4.2.2 薄膜的机械性能研究 | 第52-55页 |
| 4.2.3 薄膜的接触角分析 | 第55页 |
| 4.2.4 分子印迹膜的吸湿率和水溶性 | 第55-58页 |
| 4.2.5 薄膜的表面形态表征 | 第58-60页 |
| 4.2.6 分子印迹膜在不同温度下的释放特性 | 第60-61页 |
| 4.3 本章小结 | 第61-62页 |
| 总结与展望 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-71页 |
| 在读期间科研情况 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-74页 |
