| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-22页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 光催化研究技术概述 | 第10-16页 |
| 1.2.1 光催化机理 | 第11-12页 |
| 1.2.2 影响半导体光催化剂催化活性的因素 | 第12-14页 |
| 1.2.3 提高光催化剂光催化性能的途径 | 第14-15页 |
| 1.2.4 光催化技术的特点 | 第15-16页 |
| 1.3 蒙脱土材料的结构特性和应用 | 第16-18页 |
| 1.3.1 蒙脱土的特性及研究近况 | 第16页 |
| 1.3.2 蒙脱土的结构 | 第16-17页 |
| 1.3.3 蒙脱土的应用 | 第17-18页 |
| 1.4 以Ag为基础的光催化剂的研究背景及现状 | 第18-19页 |
| 1.5 本论文的选题意义、研究内容和创新点 | 第19-22页 |
| 第二章 AgCl-Mt复合催化剂的制备、表征及光催化降解酸性大红AR18性能和机理 | 第22-46页 |
| 2.1 引言 | 第22-23页 |
| 2.2 实验部分 | 第23-26页 |
| 2.2.1 实验试剂 | 第23页 |
| 2.2.2 实验仪器 | 第23页 |
| 2.2.3 复合光催化剂的制备 | 第23-24页 |
| 2.2.4 催化剂的表征 | 第24-25页 |
| 2.2.5 光催化剂活性评价 | 第25-26页 |
| 2.2.6 分析方法 | 第26页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第26-41页 |
| 2.3.1 光催化剂的表征 | 第26-33页 |
| 2.3.2 3AgCl-Mt光催化降解AR18染料 | 第33-41页 |
| 2.4 光催化降解机理 | 第41-44页 |
| 2.4.1 抑制实验 | 第41-43页 |
| 2.4.2 光催化降解机理 | 第43-44页 |
| 2.5 结论 | 第44-46页 |
| 第三章 催化剂AgBr-Ag_3PO_4-Mt的制备、表征及光催化降解甲基橙MO的性能和机理 | 第46-66页 |
| 3.1 引言 | 第46-47页 |
| 3.2 实验部分 | 第47-50页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第47-48页 |
| 3.2.2 实验仪器 | 第48页 |
| 3.2.3 催化剂的制备 | 第48页 |
| 3.2.4 催化剂的表征 | 第48-49页 |
| 3.2.5 光催化活性评价 | 第49-50页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第50-61页 |
| 3.3.1 光催化剂的表征 | 第50-54页 |
| 3.3.2 光催化剂的活性评价 | 第54-61页 |
| 3.4 光催化降解机理 | 第61-64页 |
| 3.4.1 抑制实验 | 第61-62页 |
| 3.4.2 光催化降解机理 | 第62-64页 |
| 3.5 结论 | 第64-66页 |
| 结论与展望 | 第66-68页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-82页 |
| 附录: 硕士期间取得的学术成果 | 第82-84页 |
| 致谢 | 第84页 |
