基于紫外光刻的纳米模具及聚合物纳流控芯片制作
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-15页 |
| ·纳流控芯片简介 | 第8页 |
| ·纳米沟道的加工材料及方法 | 第8-14页 |
| ·本文的研究内容 | 第14-15页 |
| 2 硅模具母模的制作工艺研究 | 第15-29页 |
| ·纳米沟道结构 | 第15页 |
| ·刻蚀后再氧化工艺流程 | 第15-17页 |
| ·显影工艺优化 | 第17-18页 |
| ·二氧化硅刻蚀工艺优化 | 第18-19页 |
| ·硅刻蚀工艺优化 | 第19-23页 |
| ·硅的氧化工艺研究 | 第23-27页 |
| ·硅片晶向和氧化时间与厚度的关系 | 第23-24页 |
| ·沟道宽度与氧化时间的关系 | 第24-27页 |
| ·硅母模形貌观测 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 3 PMMA子模的制作 | 第29-33页 |
| ·PMMA子模的热压成型 | 第29-31页 |
| ·热压成型技术简介 | 第29页 |
| ·热压法制作PMMA子模工艺优化 | 第29-31页 |
| ·PMMA子模形貌观测 | 第31-32页 |
| ·本章小结 | 第32-33页 |
| 4 PET纳米沟道的制作 | 第33-37页 |
| ·PMMA与PET的热性能对比 | 第33-34页 |
| ·PET纳米沟道的热压成形 | 第34-36页 |
| ·纳米沟道的复制精度 | 第36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 5 一种PET纳流控芯片的研制 | 第37-42页 |
| ·纳流控芯片的结构 | 第38页 |
| ·微-纳流控芯片的键合 | 第38-41页 |
| ·芯片的清洗 | 第38-39页 |
| ·芯片的对准 | 第39页 |
| ·芯片的键合 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 结论 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-46页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47-49页 |
