首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--半导体技术论文--半导体三极管(晶体管)论文--晶体管:按性能分论文

不同结构双极晶体管位移损伤等效性研究

摘要第4-5页
ABSTRACT第5页
第1章 绪论第8-21页
    1.1 课题背景及研究的目的和意义第8-9页
    1.2 位移损伤研究历程第9-11页
    1.3 位移缺陷的研究第11-16页
        1.3.1 空位复合缺陷的研究第13-14页
        1.3.2 间隙原子复合缺陷的研究第14-16页
    1.4 位移等效性的研究第16-19页
    1.5 本文的主要研究内容第19-21页
第2章 试验器件和分析方法第21-26页
    2.1 试验器件第21-22页
    2.2 辐照测试方法第22页
    2.3 电性能测试方法第22-25页
        2.3.1 电流增益分析方法第23-24页
        2.3.2 过剩基极电流和过剩集电极电流的分析方法第24-25页
    2.4 深能级瞬态谱分析方法第25-26页
第3章 双极晶体管电性能演化规律第26-40页
    3.1 不同结构双极晶体管的电流增益变化规律第26-30页
        3.1.1 NPN双极晶体管电流增益变化规律第26-27页
        3.1.2 PNP双极晶体管电流增益变化规律第27-28页
        3.1.3 GLPNP双极晶体管的电流增益变化规律第28-29页
        3.1.4 GSPNP双极晶体管的电流增益变化规律第29-30页
    3.2 过剩基极电流和过剩集电极电流第30-38页
        3.2.1 NPN双极晶体管过剩基极电流和过剩集电极电流第30-33页
        3.2.2 PNP双极晶体管过剩基极电流和过剩集电极电流第33-35页
        3.2.3 GLPNP双极晶体管过剩基极电流和过剩集电极电流第35-37页
        3.2.4 GSPNP双极晶体管过剩基极电流和过剩集电极电流第37-38页
    3.3 本章小结第38-40页
第4章 双极晶体管位移缺陷演化规律第40-50页
    4.1 NPN双极晶体管位移缺陷演化规律第40-42页
    4.2 PNP双极晶体管位移缺陷演化规律第42-46页
    4.3 GLPNP双极晶体管位移缺陷演化规律第46-48页
    4.4 GSPNP双极晶体管位移缺陷演化规律第48-49页
    4.5 本章小结第49-50页
第5章 不同结构双极晶体管位移等效性研究第50-61页
    5.1 NPN双极晶体管位移等效性研究第50-53页
        5.1.1 单位注量的吸收剂量计算第50-52页
        5.1.2 NPN晶体管位移等效性研究第52-53页
    5.2 PNP双极晶体位移等效性研究第53-55页
        5.2.1 单位注量的吸收剂量计算第53-54页
        5.2.2 PNP晶体管位移等效性研究第54-55页
    5.3 GLPNP双极晶体管位移等效性研究第55-58页
        5.3.1 单位注量的吸收剂量计算第55-57页
        5.3.2 GLPNP晶体管位移等效性研究第57-58页
    5.4 GSPNP双极晶体管位移等效性研究第58-60页
        5.4.1 单位注量的吸收剂量的计算第58-59页
        5.4.2 GSPNP晶体管位移等效性研究第59-60页
    5.5 本章小结第60-61页
结论第61-62页
参考文献第62-67页
致谢第67页

论文共67页,点击 下载论文
上一篇:温度对NMOSFET单粒子瞬态电荷收集影响规律数值模拟
下一篇:新乡市健身气功站点科学发展研究