动态渐变灰阶数字掩模技术制作微透镜的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 引言 | 第9-14页 |
| ·微光学及其发展现状 | 第9-10页 |
| ·微光学器件的制作方法介绍 | 第10-11页 |
| ·二元套刻法 | 第10页 |
| ·灰阶掩模方法 | 第10-11页 |
| ·光刻胶热熔法 | 第11页 |
| ·无掩模数字光刻技术 | 第11-12页 |
| ·本论文主要研究工作及内容安排 | 第12-14页 |
| ·主要研究工作 | 第12-13页 |
| ·内容安排 | 第13-14页 |
| 第二章 DMD数字微镜装置及其特性 | 第14-20页 |
| ·空间光调制器 | 第14-15页 |
| ·DMD的基本结构和工作原理 | 第15-17页 |
| ·DMD的基本结构 | 第15-16页 |
| ·DMD的工作原理 | 第16-17页 |
| ·DMD显示图形的失真特性 | 第17-20页 |
| 第三章 微透镜的设计和制作 | 第20-34页 |
| ·衍射透镜的制作 | 第20-23页 |
| ·二元光学的基础理论 | 第20-22页 |
| ·衍射微透镜的标量设计理论 | 第22-23页 |
| ·折射型微透镜的设计和制作 | 第23-26页 |
| ·折射微透镜的几何光学设计理论 | 第23-24页 |
| ·数字光刻技术中折射透镜的设计 | 第24-26页 |
| ·动态渐变灰阶数字掩模技术制作微透镜 | 第26-34页 |
| ·动态渐变灰阶曝光法 | 第27页 |
| ·动态渐变灰阶曝光方法提出的必要性 | 第27-28页 |
| ·动态渐变灰阶曝光法的基本原理 | 第28-30页 |
| ·动态渐变灰阶曝光法的具体内容 | 第30-34页 |
| 第四章 实验制作 | 第34-58页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·实验装置及系统介绍 | 第34-44页 |
| ·数字微镜器件成像原理 | 第34-35页 |
| ·用于实验的光刻机 | 第35-38页 |
| ·对本实验设备的优化 | 第38-39页 |
| ·制作数字掩模的软件 | 第39-44页 |
| ·实验步骤及其工艺 | 第44-58页 |
| ·硅片表面处理 | 第44-45页 |
| ·涂胶 | 第45-46页 |
| ·前烘 | 第46页 |
| ·曝光 | 第46-47页 |
| ·后烘 | 第47页 |
| ·显影 | 第47页 |
| ·本实验主要工艺讨论 | 第47-49页 |
| ·本实验参数 | 第49-50页 |
| ·动态渐变灰阶数字光刻技术制作微透镜的实验结果 | 第50-58页 |
| 第五章 结论 | 第58-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第64-65页 |
