等离子体辅助石墨烯薄膜制备及其超级电容储能性能研究
致谢 | 第4-5页 |
摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
缩写符号表 | 第8-12页 |
1 绪论 | 第12-30页 |
1.1 引言 | 第12-13页 |
1.2 超级电容 | 第13-17页 |
1.2.1 储能原理 | 第13-16页 |
1.2.2 应用领域 | 第16-17页 |
1.3 电极材料发展 | 第17-22页 |
1.3.1 活性炭 | 第18页 |
1.3.2 碳气凝胶 | 第18页 |
1.3.3 碳化物衍生碳 | 第18-19页 |
1.3.4 石墨烯 | 第19-22页 |
1.4 石墨烯薄膜的制备及应用 | 第22-28页 |
1.4.1 机械剥离法 | 第22页 |
1.4.2 旋涂法 | 第22-23页 |
1.4.3 喷涂法 | 第23页 |
1.4.4 化学气相沉积法 | 第23-24页 |
1.4.5 电泳沉积法 | 第24页 |
1.4.6 层层自组装法 | 第24-25页 |
1.4.7 真空抽滤沉积法 | 第25-28页 |
1.5 本文研究意义与研究内容 | 第28-30页 |
2 实验材料及方法 | 第30-34页 |
2.1 实验材料 | 第30页 |
2.2 实验设备 | 第30-31页 |
2.3 表征方法 | 第31页 |
2.3.1 扫描电子显微镜 | 第31页 |
2.3.2 透射电镜 | 第31页 |
2.3.3 X射线光电子能谱 | 第31页 |
2.3.4 Raman光谱 | 第31页 |
2.4 电化学性能 | 第31-34页 |
2.4.1 循环伏安测试 | 第31-32页 |
2.4.2 恒定流充放电测试 | 第32页 |
2.4.3 电化学交流阻抗谱测试 | 第32-34页 |
3 石墨烯薄膜制备与表征 | 第34-53页 |
3.1 前言 | 第34-35页 |
3.2 实验部分 | 第35-38页 |
3.2.1 氧化石墨烯薄膜制备 | 第35-36页 |
3.2.2 等离子体辅助还原氧化石墨烯 | 第36-38页 |
3.3 机理解释 | 第38-41页 |
3.4 反应区域对还原产物的影响 | 第41-46页 |
3.4.1 负辉区 | 第42-43页 |
3.4.2 法拉第暗区 | 第43-44页 |
3.4.3 负辉区与法拉第暗区间的交界区 | 第44页 |
3.4.4 不同等离子体区域反应产物比较 | 第44-46页 |
3.5 反应时长对还原产物的影响 | 第46-47页 |
3.6 还原产物表征 | 第47-51页 |
3.6.1 形貌 | 第47-48页 |
3.6.2 XPS | 第48-50页 |
3.6.3 Raman光谱 | 第50-51页 |
3.7 本章小结 | 第51-53页 |
4 石墨烯薄膜的储能特性 | 第53-63页 |
4.1 前言 | 第53页 |
4.2 实验部分 | 第53-54页 |
4.3 循环伏安特性 | 第54-56页 |
4.4 恒电流充放电 | 第56-59页 |
4.5 交流阻抗谱测试 | 第59-62页 |
4.6 本章小结 | 第62-63页 |
5 总结与展望 | 第63-65页 |
5.1 总结 | 第63页 |
5.2 创新点 | 第63-64页 |
5.3 展望 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-73页 |
作者简历 | 第73页 |