| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-17页 |
| 1.1 能源现状 | 第10-12页 |
| 1.2 太阳能电池发展历史 | 第12-15页 |
| 1.3 本文的主要工作 | 第15页 |
| 1.4 本论文的结构安排 | 第15-17页 |
| 第二章 太阳能电池的基础理论 | 第17-36页 |
| 2.1 太阳能电池的工作原理 | 第17-25页 |
| 2.1.1 PN结 | 第17-19页 |
| 2.1.2 非平衡的PN结 | 第19-20页 |
| 2.1.3 光生伏特效应 | 第20-21页 |
| 2.1.4 太阳电池性能表征 | 第21-25页 |
| 2.2 减反射薄膜 | 第25-35页 |
| 2.2.1 减反射薄膜制备的历史发展 | 第25-26页 |
| 2.2.2 薄膜减反射的原理 | 第26-35页 |
| 2.3 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 PECVD沉积氮化硅膜的工艺研究 | 第36-53页 |
| 3.1 氮化硅薄膜特性 | 第36页 |
| 3.2 氮化硅膜的高效钝化原理 | 第36-37页 |
| 3.3 氮化硅薄膜的制备方法 | 第37-52页 |
| 3.3.1 溅射法制备氮化硅薄膜 | 第37页 |
| 3.3.2 化学气相沉积法制备氮化硅薄膜 | 第37页 |
| 3.3.3 常压化学气相沉积（APCVD） | 第37-38页 |
| 3.3.4 低压化学气相沉积（LPCVD） | 第38页 |
| 3.3.5 等离子体增强化学气相沉积（PECVD） | 第38-39页 |
| 3.3.6 等离子体增强化学气相沉积技术基础 | 第39-45页 |
| 3.3.8 PECVD沉积氮化硅薄膜的工艺试验研究 | 第45-52页 |
| 3.4 本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 双层减反射膜工艺试验 | 第53-75页 |
| 4.1 多层减反射膜的理论模型 | 第53-54页 |
| 4.2 双层减反射膜设计 | 第54-64页 |
| 4.2.1 评价函数的建立 | 第54页 |
| 4.2.2 设计过程 | 第54-55页 |
| 4.2.3 实验设计 | 第55-64页 |
| 4.3 双层减反射膜电池制备试验 | 第64-74页 |
| 4.3.1 SiONx/SiN双层减反射膜电池工业制备 | 第64-71页 |
| 4.3.2 双层氮化硅膜电池工业制备 | 第71-74页 |
| 4.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 第五章 总结 | 第75-77页 |
| 5.1 本文的主要贡献 | 第75-76页 |
| 5.2 下一步工作展望 | 第76-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-81页 |
