基于多层拓扑结构的毫米波基片集成阵列天线的研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-21页 |
| 1.1 选题背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第11-19页 |
| 1.2.1 高增益阵列天线 | 第11-15页 |
| 1.2.2 波束聚焦阵列天线 | 第15-19页 |
| 1.3 创新点与章节安排 | 第19-21页 |
| 1.3.1 主要创新点 | 第19-20页 |
| 1.3.2 研究内容与章节安排 | 第20-21页 |
| 第二章 阵列天线中的关键结构与技术 | 第21-29页 |
| 2.1 垂直过渡结构 | 第21-22页 |
| 2.2 宽带耦合馈电技术 | 第22-24页 |
| 2.3 波导移相器 | 第24-25页 |
| 2.4 波导与基片集成波导过渡结构 | 第25-28页 |
| 2.5 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 高增益阵列天线研究 | 第29-49页 |
| 3.1 单元天线分析 | 第29-35页 |
| 3.1.1 缝隙长度与谐振频率的关系 | 第30-31页 |
| 3.1.2 缝隙偏移量与谐振频率的关系 | 第31页 |
| 3.1.3 辐射单元 | 第31-33页 |
| 3.1.4 底层基片 | 第33页 |
| 3.1.5 单元间距 | 第33-34页 |
| 3.1.6 单元间互耦 | 第34-35页 |
| 3.2 测试原理 | 第35-36页 |
| 3.2.1 反射系数测试原理 | 第35页 |
| 3.2.2 增益与方向图测试原理 | 第35-36页 |
| 3.3 E波段 16×16宽频带阵列天线实验 | 第36-40页 |
| 3.3.1 反射系数测试 | 第37-38页 |
| 3.3.2 增益与方向图测试 | 第38-40页 |
| 3.4 E波段 8×8 双频带阵列天线实验 | 第40-45页 |
| 3.4.1 反射系数测试 | 第41-42页 |
| 3.4.2 增益与方向图测试 | 第42-45页 |
| 3.5 容差分析 | 第45-47页 |
| 3.5.1 基片材料特性影响 | 第45-46页 |
| 3.5.2 打孔位置误差影响 | 第46-47页 |
| 3.6 本章小结 | 第47-49页 |
| 第四章 聚焦阵列天线研究 | 第49-62页 |
| 4.1 平面聚焦原理 | 第49-50页 |
| 4.2 平面聚焦阵列天线设计方法 | 第50-51页 |
| 4.3 最小聚焦阵列天线分析 | 第51-56页 |
| 4.3.1 聚焦阵列天线能量分布表示方法 | 第52页 |
| 4.3.2 纵向电场分布特点 | 第52-53页 |
| 4.3.3 纵向电场分布与频率的关系 | 第53页 |
| 4.3.4 纵向电场分布与单元.径的关系 | 第53-54页 |
| 4.3.5 纵向电场分布与单元高度的关系 | 第54-55页 |
| 4.3.6 焦斑大小评估 | 第55-56页 |
| 4.4 X波段 4×4 聚焦阵列天线实验 | 第56-59页 |
| 4.4.1 反射系数测试 | 第57页 |
| 4.4.2 焦距与焦斑测试 | 第57-59页 |
| 4.5 Ka波段 8×8 聚焦阵列天线仿真 | 第59-61页 |
| 4.5.1 反射系数 | 第60页 |
| 4.5.2 焦距和焦斑 | 第60-61页 |
| 4.6 本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 总结与展望 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第70-71页 |
