| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-24页 |
| 1.1 选题背景 | 第11-12页 |
| 1.1.1 印染废水深度处理概述 | 第11-12页 |
| 1.1.2 高级氧化法深度处理印染废水简介 | 第12页 |
| 1.2 臭氧氧化处理印染废水研究进展 | 第12-15页 |
| 1.2.1 臭氧的性质 | 第12-13页 |
| 1.2.2 臭氧氧化的机理 | 第13页 |
| 1.2.3 臭氧氧化深度处理印染废水研究进展 | 第13-14页 |
| 1.2.4 臭氧氧化深度处理印染废水存在的主要问题及发展方向 | 第14-15页 |
| 1.3 真空紫外光（VUV）/高频超声（US）耦合深度处理废水研究进展 | 第15-23页 |
| 1.3.1 VUV 氧化技术研究进展 | 第15-18页 |
| 1.3.2 US 氧化技术研究进展 | 第18-21页 |
| 1.3.3 VUV/US 耦合氧化技术研究进展 | 第21-23页 |
| 1.4 研究目标和主要研究内容 | 第23-24页 |
| 1.4.1 研究目标 | 第23页 |
| 1.4.2 主要研究内容 | 第23-24页 |
| 第二章 印染废水尾水水质解析 | 第24-30页 |
| 引言 | 第24页 |
| 2.1 材料与方法 | 第24页 |
| 2.1.1 药剂及供水水样 | 第24页 |
| 2.1.2 仪器 | 第24页 |
| 2.2 分析项目和分析方法 | 第24-26页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第26-29页 |
| 2.3.1 常规水质指标 | 第26页 |
| 2.3.2 无机离子 | 第26-27页 |
| 2.3.3 各类溶解性有机物的紫外-可见吸收特性 | 第27页 |
| 2.3.4 特征污染物--毒害性难降解有机物 | 第27-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 臭氧氧化深度处理印染废水尾水研究 | 第30-47页 |
| 引言 | 第30页 |
| 3.1 材料与方法 | 第30-31页 |
| 3.1.1 供试水样 | 第30页 |
| 3.1.2 材料与药剂 | 第30-31页 |
| 3.1.3 实验装置与实验方法 | 第31页 |
| 3.1.4 主要指标与测试方法 | 第31页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第31-45页 |
| 3.3.1 臭氧氧化法深度处理印染废水尾水的影响因素与效果 | 第31-33页 |
| 3.3.2 响应面分析臭氧氧化法深度处理印染废水尾水调控策略 | 第33-43页 |
| 3.3.3 臭氧氧化深度处理印染废水尾水动力学 | 第43-44页 |
| 3.3.4 降解产物分析及降解机理 | 第44-45页 |
| 3.4 本章小结 | 第45-47页 |
| 第四章 VUV/US 耦合深度处理印染废水尾水研究 | 第47-56页 |
| 引言 | 第47-48页 |
| 4.1 材料与方法 | 第48-49页 |
| 4.1.1 供试水样 | 第48页 |
| 4.1.2 材料与药剂 | 第48页 |
| 4.1.3 实验装置与实验方法 | 第48页 |
| 4.1.4 主要指标与测试指标 | 第48-49页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第49-55页 |
| 4.3.1 耦合体系的最佳功率组合 | 第49-50页 |
| 4.3.2 VUV/US 耦合作用方式 | 第50-51页 |
| 4.3.3 VUV/US 深度处理印染废水尾水的影响因素及效果 | 第51-53页 |
| 4.3.4 VUV/US 深度处理印染废水尾水的动力学 | 第53-54页 |
| 4.3.5 VUV/US 处理印染废水尾水的机理 | 第54-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第五章 臭氧氧化与 VUV/US 对比研究 | 第56-61页 |
| 引言 | 第56页 |
| 5.1 技术特点对比 | 第56-59页 |
| 5.1.1 装置与操作 | 第56页 |
| 5.1.2 主要影响因素、适应条件和边界条件 | 第56页 |
| 5.1.3 处理效果、特征污染物的转化与降解机理 | 第56-59页 |
| 5.2 本章小结 | 第59-61页 |
| 结论与展望 | 第61-63页 |
| 一、结论 | 第61-62页 |
| 二、展望 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-72页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 附件 | 第74页 |
