| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-17页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第12-15页 |
| 1.2.1 电镀镉工艺研究现状 | 第12页 |
| 1.2.2 氢致开裂理论研究现状 | 第12-13页 |
| 1.2.3 氢脆试验方法的研究现状 | 第13-15页 |
| 1.2.4 镀层/金属组合体系氢渗透研究 | 第15页 |
| 1.3 研究目标及内容 | 第15-17页 |
| 第二章 实验材料及测试方法 | 第17-24页 |
| 2.1 实验材料和实验设备 | 第17-18页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第17-18页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第18页 |
| 2.2 实验用试样的制备 | 第18-20页 |
| 2.2.1 电化学试样制备 | 第18-19页 |
| 2.2.2 慢应变速率拉伸试样制备 | 第19-20页 |
| 2.2.3 配置氯化铵镀镉溶液 | 第20页 |
| 2.3 实验方法 | 第20-24页 |
| 2.3.1 电化学渗透试验 | 第20-21页 |
| 2.3.2 慢应变速率拉伸测试 | 第21-23页 |
| 2.3.3 断口分析 | 第23页 |
| 2.3.4 镀层微观形貌观察 | 第23页 |
| 2.3.5 镀层晶粒大小、晶粒取向测定 | 第23页 |
| 2.3.6 电沉积工艺参数 | 第23-24页 |
| 第三章 电镀镉/镉-钛工艺对镀层微观结构影响 | 第24-41页 |
| 3.1 阴极电流密度对镀层微观结构影响 | 第24-31页 |
| 3.1.1 镀层微观形貌影响 | 第24-27页 |
| 3.1.2 镀层晶体取向影响 | 第27-30页 |
| 3.1.3 镀层晶粒尺寸影响 | 第30-31页 |
| 3.2 镀液PH值对镀层微观结构影响 | 第31-35页 |
| 3.2.1 镀层微观形貌影响 | 第31-33页 |
| 3.2.2 镀层晶体取向影响 | 第33-34页 |
| 3.2.3 镀层晶粒尺寸影响 | 第34-35页 |
| 3.3 脉冲电镀对镀层微观结构影响 | 第35-39页 |
| 3.3.1 镀层微观形貌影响 | 第35-37页 |
| 3.3.2 镀层晶体取向影响 | 第37-39页 |
| 3.3.3 镀层晶粒尺寸影响 | 第39页 |
| 3.4 本章小结 | 第39-41页 |
| 第四章 氢在电镀过程中渗透和扩散分析 | 第41-51页 |
| 4.1 氢的吸附与扩散 | 第41-45页 |
| 4.1.1 氢在300M高强钢表面的吸附 | 第42页 |
| 4.1.2 电镀过程氢在300M高强钢中的扩散 | 第42页 |
| 4.1.3 电化学渗氢模型的建立 | 第42-45页 |
| 4.2 电化学氢渗透试验分析 | 第45-50页 |
| 4.2.1 空白试样(300M高强钢)电化学氢渗透试验 | 第45-46页 |
| 4.2.2 电镀时间对氢渗透的影响 | 第46-47页 |
| 4.2.3 充氢电流密度对氢渗透的影响 | 第47-48页 |
| 4.2.4 镀液PH值对氢渗透的影响 | 第48-49页 |
| 4.2.5 渗氢电流曲线理论拟合 | 第49-50页 |
| 4.3 本章小结 | 第50-51页 |
| 第五章 300M钢电镀过程氢脆敏感性的分析 | 第51-62页 |
| 5.1 阴极电流密度对氢脆敏感性的影响 | 第51-55页 |
| 5.1.1 缺口拉伸试样断口形貌影响 | 第51-54页 |
| 5.1.2 缺口试样应力应变特性影响 | 第54-55页 |
| 5.2 镀液PH值对氢脆敏感性的影响 | 第55-58页 |
| 5.2.1 缺口拉伸试样断口形貌影响 | 第55-57页 |
| 5.2.2 缺口试样应力应变特性影响 | 第57-58页 |
| 5.3 脉冲电镀对氢脆敏感性的影响 | 第58-60页 |
| 5.3.1 缺口拉伸试样断口形貌影响 | 第58-59页 |
| 5.3.2 缺口试样应力应变特性影响 | 第59-60页 |
| 5.4 本章小结 | 第60-62页 |
| 第六章 总结与展望 | 第62-63页 |
| 致谢 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |