基于分形理论的光学表面误差评价方法研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 目录 | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 光学表面检测技术 | 第11-16页 |
| 1.2.1 国内外发展现状 | 第11-12页 |
| 1.2.2 接触式表面测量技术 | 第12页 |
| 1.2.3 非接触式表面测量技术 | 第12-14页 |
| 1.2.4 扫描显微镜 | 第14-16页 |
| 1.3 论文主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 光学表面质量评价方法 | 第18-28页 |
| 2.1 峰谷值 | 第18-20页 |
| 2.2 均方根值 | 第20-21页 |
| 2.3 中心点亮度 | 第21-22页 |
| 2.4 泽尼克多项式 | 第22-23页 |
| 2.5 功率谱密度曲线 | 第23-26页 |
| 2.6 本章小结 | 第26-28页 |
| 第三章 光学表面的分形表征 | 第28-45页 |
| 3.1 分形理论 | 第28-34页 |
| 3.1.1 分形的定义 | 第28-30页 |
| 3.1.2 分形的性质 | 第30-33页 |
| 3.1.3 分形维数 | 第33-34页 |
| 3.2 分形维数的计算方法 | 第34-40页 |
| 3.2.1 二维分形维数计算方法 | 第34-38页 |
| 3.2.2 分维计算方法比较 | 第38-40页 |
| 3.3 光学表面的分形表征 | 第40-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 CMP抛光参数与分形维数关系探究实验 | 第45-71页 |
| 4.1 化学机械抛光技术 | 第45-49页 |
| 4.1.1 CMP技术发展背景 | 第45-46页 |
| 4.1.2 CMP工作原理 | 第46-47页 |
| 4.1.3 影响CMP质量的因素 | 第47-49页 |
| 4.2 响应曲面法 | 第49-54页 |
| 4.2.1 响应曲面法基本概念 | 第49-50页 |
| 4.2.2 响应曲面法过程分析 | 第50-51页 |
| 4.2.3 二阶响应曲面模型分析 | 第51-52页 |
| 4.2.4 试验设计 | 第52-54页 |
| 4.3 实验条件 | 第54-57页 |
| 4.4 实验流程及数据 | 第57-58页 |
| 4.5 数据处理及分析 | 第58-70页 |
| 4.5.1 JGS1数据分析 | 第58-64页 |
| 4.5.2 K9数据分析 | 第64-70页 |
| 4.6 本章小结 | 第70-71页 |
| 第五章 结论与展望 | 第71-72页 |
| 5.1 结论 | 第71页 |
| 5.2 展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 硕士期间的科研成果 | 第77页 |
