致谢 | 第5-6页 |
摘要 | 第6-8页 |
Abstract | 第8-9页 |
第一章 绪论 | 第12-20页 |
1.1 流体参数检测特点和意义 | 第13-14页 |
1.1.1 流体电导率的检测的特点和意义 | 第13页 |
1.1.2 流体流量的检测特点和意义 | 第13-14页 |
1.2 流体参数的检测方法和研究现状 | 第14-15页 |
1.2.1 流体电导率的检测方法和研究现状 | 第14页 |
1.2.2 流体流量的检测方法和研究现状 | 第14-15页 |
1.3 C~4D技术简介 | 第15-17页 |
1.4 本文主要的研究工作 | 第17-19页 |
1.5 本章小结 | 第19-20页 |
第二章 文献综述 | 第20-36页 |
2.1 工业流体电导率检测的发展现状 | 第21-22页 |
2.2 毫米级管道流量检测方法研究现状 | 第22-23页 |
2.3 C~4D技术及发展现状 | 第23-32页 |
2.3.1 C~4D的测量原理 | 第24页 |
2.3.2 C~4D测量系统构成 | 第24-25页 |
2.3.3 C~4D技术研究现状 | 第25-30页 |
2.3.4 C~4D技术的应用 | 第30-32页 |
2.4 相关流量技术及发展现状 | 第32-35页 |
2.4.1 相关流量检测技术的原理 | 第32-34页 |
2.4.2 相关流量检测技术的发展及现状 | 第34-35页 |
2.5 本章小结 | 第35-36页 |
第三章 工业应用的C~4D系统设计思路 | 第36-44页 |
3.1 工业应用的C~4D系统的问题概述 | 第37-38页 |
3.2 耦合电容的影响 | 第38页 |
3.3 杂散电容的影响 | 第38-40页 |
3.4 工业现场的干扰 | 第40-41页 |
3.5 工业现场的连接 | 第41-42页 |
3.6 工业应用的新型C~4D系统的设计思路 | 第42-43页 |
3.7 本章小结 | 第43-44页 |
第四章 基于C~4D技术的流体电导率测量装置及方法 | 第44-70页 |
4.1 工业应用的新型C~4D系统的研究方案 | 第45-46页 |
4.1.1 工业应用的新型C~4D系统的研究意义 | 第45页 |
4.1.2 工业应用的新型C~4D系统的技术路线 | 第45-46页 |
4.2 工业应用的新型C~4D系统构成 | 第46-47页 |
4.3 工业应用的新型C~4D系统测量原理 | 第47-49页 |
4.4 工业应用的新型C~4D系统的设计 | 第49-55页 |
4.4.1 传感器模块设计 | 第49-50页 |
4.4.2 特殊设计的屏蔽结构 | 第50-51页 |
4.4.3 信号处理电路设计 | 第51-53页 |
4.4.4 数据采集模块设计 | 第53-55页 |
4.4.5 电导率获取模块 | 第55页 |
4.5 实验结果与分析 | 第55-68页 |
4.5.1 电导率的测量实验 | 第55-62页 |
4.5.2 抗干扰性能的实验验证 | 第62-64页 |
4.5.3 输入输出特性分析 | 第64-68页 |
4.6 本章小结 | 第68-70页 |
第五章 基于C~4D技术的流体流量测量装置及方法 | 第70-86页 |
5.1 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量的研究方案 | 第71-73页 |
5.1.1 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量研究意义 | 第71页 |
5.1.2 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量的可行性研究 | 第71-72页 |
5.1.3 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量的技术路线 | 第72-73页 |
5.2 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量系统设计 | 第73-81页 |
5.2.1 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量系统结构 | 第73-74页 |
5.2.2 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量系统原理及设计 | 第74-75页 |
5.2.3 新型C~4D传感器的设计 | 第75-77页 |
5.2.4 电子开关模块 | 第77-78页 |
5.2.5 信号处理和数据采集模块 | 第78-80页 |
5.2.6 相关流量测量模块 | 第80-81页 |
5.3 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量系统的实验装置 | 第81-82页 |
5.4 实验结果与讨论 | 第82-84页 |
5.5 本章小结 | 第84-86页 |
第六章 结论与展望 | 第86-90页 |
参考文献 | 第90-94页 |
作者简历 | 第94-96页 |
参与项目及科研成果 | 第96页 |