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基于C~4D技术的流体参数测量新方法研究

致谢第5-6页
摘要第6-8页
Abstract第8-9页
第一章 绪论第12-20页
    1.1 流体参数检测特点和意义第13-14页
        1.1.1 流体电导率的检测的特点和意义第13页
        1.1.2 流体流量的检测特点和意义第13-14页
    1.2 流体参数的检测方法和研究现状第14-15页
        1.2.1 流体电导率的检测方法和研究现状第14页
        1.2.2 流体流量的检测方法和研究现状第14-15页
    1.3 C~4D技术简介第15-17页
    1.4 本文主要的研究工作第17-19页
    1.5 本章小结第19-20页
第二章 文献综述第20-36页
    2.1 工业流体电导率检测的发展现状第21-22页
    2.2 毫米级管道流量检测方法研究现状第22-23页
    2.3 C~4D技术及发展现状第23-32页
        2.3.1 C~4D的测量原理第24页
        2.3.2 C~4D测量系统构成第24-25页
        2.3.3 C~4D技术研究现状第25-30页
        2.3.4 C~4D技术的应用第30-32页
    2.4 相关流量技术及发展现状第32-35页
        2.4.1 相关流量检测技术的原理第32-34页
        2.4.2 相关流量检测技术的发展及现状第34-35页
    2.5 本章小结第35-36页
第三章 工业应用的C~4D系统设计思路第36-44页
    3.1 工业应用的C~4D系统的问题概述第37-38页
    3.2 耦合电容的影响第38页
    3.3 杂散电容的影响第38-40页
    3.4 工业现场的干扰第40-41页
    3.5 工业现场的连接第41-42页
    3.6 工业应用的新型C~4D系统的设计思路第42-43页
    3.7 本章小结第43-44页
第四章 基于C~4D技术的流体电导率测量装置及方法第44-70页
    4.1 工业应用的新型C~4D系统的研究方案第45-46页
        4.1.1 工业应用的新型C~4D系统的研究意义第45页
        4.1.2 工业应用的新型C~4D系统的技术路线第45-46页
    4.2 工业应用的新型C~4D系统构成第46-47页
    4.3 工业应用的新型C~4D系统测量原理第47-49页
    4.4 工业应用的新型C~4D系统的设计第49-55页
        4.4.1 传感器模块设计第49-50页
        4.4.2 特殊设计的屏蔽结构第50-51页
        4.4.3 信号处理电路设计第51-53页
        4.4.4 数据采集模块设计第53-55页
        4.4.5 电导率获取模块第55页
    4.5 实验结果与分析第55-68页
        4.5.1 电导率的测量实验第55-62页
        4.5.2 抗干扰性能的实验验证第62-64页
        4.5.3 输入输出特性分析第64-68页
    4.6 本章小结第68-70页
第五章 基于C~4D技术的流体流量测量装置及方法第70-86页
    5.1 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量的研究方案第71-73页
        5.1.1 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量研究意义第71页
        5.1.2 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量的可行性研究第71-72页
        5.1.3 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量的技术路线第72-73页
    5.2 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量系统设计第73-81页
        5.2.1 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量系统结构第73-74页
        5.2.2 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量系统原理及设计第74-75页
        5.2.3 新型C~4D传感器的设计第75-77页
        5.2.4 电子开关模块第77-78页
        5.2.5 信号处理和数据采集模块第78-80页
        5.2.6 相关流量测量模块第80-81页
    5.3 基于C~4D技术的毫米级管道流量测量系统的实验装置第81-82页
    5.4 实验结果与讨论第82-84页
    5.5 本章小结第84-86页
第六章 结论与展望第86-90页
参考文献第90-94页
作者简历第94-96页
参与项目及科研成果第96页

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