| 摘要 | 第3-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 研究的背景和意义 | 第8-10页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第10-13页 |
| 1.3 本文主要研究内容 | 第13-14页 |
| 第二章 实验部分 | 第14-19页 |
| 2.1 实验器材 | 第14-15页 |
| 2.1.1 主要化学试剂及材料 | 第14-15页 |
| 2.1.2 主要实验仪器 | 第15页 |
| 2.2 焦磷酸盐镀铜实验装置及方法 | 第15-16页 |
| 2.3 本文主要研究方法 | 第16-19页 |
| 2.3.1 纯铜电极和镀铜镍基电极作为研究电极的实验 | 第16-17页 |
| 2.3.2 镁深镀能力测试 | 第17-19页 |
| 第三章 不同电解质溶液中镁电沉积行为的研究 | 第19-45页 |
| 3.1 乙基溴化镁溶液中镁电沉积行为的研究 | 第19-30页 |
| 3.1.1 乙基溴化镁溶液中平板纯铜基体上镁的电沉积 | 第19-21页 |
| 3.1.2 乙基溴化镁溶液中镍基镀铜后基体上镁的电沉积 | 第21-30页 |
| 3.2 乙基氯化镁溶液中镁电沉积行为的研究 | 第30-37页 |
| 3.2.1 乙基氯化镁溶液中平板纯铜基体上镁的电沉积 | 第30-32页 |
| 3.2.2 乙基氯化镁溶液中镍基镀铜后基体上镁的电沉积 | 第32-37页 |
| 3.3 苯基氯化镁溶液中镁电沉积行为的研究 | 第37-44页 |
| 3.3.1 苯基氯化镁溶液中平板纯铜基体上镁的电沉积 | 第37-39页 |
| 3.3.2 苯基氯化镁溶液中镍基镀铜后基体上镁的电沉积 | 第39-44页 |
| 3.4 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 支持电解质对镁电沉积行为的影响 | 第45-58页 |
| 4.1 支持电解质最佳浓度的确定 | 第45-53页 |
| 4.1.1 表面形貌观察 | 第45-48页 |
| 4.1.2 表面成分分析 | 第48-53页 |
| 4.2 泡沫基体上镁的电沉积 | 第53-57页 |
| 4.3 本章小结 | 第57-58页 |
| 第五章 脉冲电沉积方法对镁电沉积行为的影响 | 第58-77页 |
| 5.1 脉冲参数的选择 | 第58-68页 |
| 5.2 脉冲电沉积与直流电沉积的对比实验 | 第68-69页 |
| 5.3 泡沫基体上镁的电沉积 | 第69-76页 |
| 5.4 本章小结 | 第76-77页 |
| 第六章 结论 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-82页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第82-83页 |
| 致谢 | 第83页 |
