| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| Contents | 第11-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-36页 |
| 1.1 砷的概述 | 第14-21页 |
| 1.1.1 砷危害的概述 | 第14-15页 |
| 1.1.2 砷在水中的存在状态 | 第15-17页 |
| 1.1.3 国内外的除砷技术现状 | 第17-21页 |
| 1.2 二氧化钛的概述 | 第21-31页 |
| 1.2.1 纳米TiO_2粉体的制备方法 | 第22页 |
| 1.2.2 纳米TiO_2薄膜的制备方法 | 第22-26页 |
| 1.2.3 TiO_2光催化氧化As(Ⅲ)原理 | 第26-31页 |
| 1.3 TiO_2光电催化技术 | 第31-35页 |
| 1.3.1 TiO_2光电催化原理 | 第31-32页 |
| 1.3.2 光电催化反应的影响因素 | 第32-35页 |
| 1.3.3 光电催化技术的应用 | 第35页 |
| 1.4 本课题的提出及意义 | 第35-36页 |
| 第二章 水热法制备TiO_2/ACF | 第36-60页 |
| 2.1 实验部分 | 第36-43页 |
| 2.1.1 实验方法及仪器设备 | 第36-37页 |
| 2.1.2 实验药品 | 第37-38页 |
| 2.1.3 水热法负载TiO_2工艺 | 第38-42页 |
| 2.1.4 催化剂的表征 | 第42-43页 |
| 2.2 结果与讨论 | 第43-59页 |
| 2.2.1 过氧化氢处理 | 第43-45页 |
| 2.2.2 硝酸处理 | 第45-48页 |
| 2.2.3 氯酸钠处理 | 第48-49页 |
| 2.2.4 阳极氧化处理 | 第49-50页 |
| 2.2.5 TiO_2/ACF的表面形貌 | 第50-52页 |
| 2.2.6 TiO_2/ACF的元素组成 | 第52-53页 |
| 2.2.7 晶型测定 | 第53-54页 |
| 2.2.9 紫外-可见UV-Vis测定 | 第54-57页 |
| 2.2.10 光催化活性测试 | 第57-58页 |
| 2.2.11 光电化学性能测试 | 第58-59页 |
| 2.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 第三章 TiO_2/ACF吸附砷 | 第60-70页 |
| 3.1 实验部分 | 第60-63页 |
| 3.1.1 砷的检测 | 第60-62页 |
| 3.1.2 吸附动力学 | 第62-63页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第63-69页 |
| 3.2.1 标准曲线的绘制 | 第63-65页 |
| 3.2.2 动力学曲线 | 第65-67页 |
| 3.2.3 吸附速率控制步骤 | 第67-69页 |
| 3.3 本章小结 | 第69-70页 |
| 第四章 光电协同作用催化氧化砷 | 第70-82页 |
| 4.1 实验部分 | 第71-81页 |
| 4.1.1 光催化时间对氧化As(Ⅲ)的影响 | 第71-72页 |
| 4.1.2 催化剂用量对氧化As(Ⅲ)的影响 | 第72-73页 |
| 4.1.3 溶液pH对氧化As(Ⅲ)的影响 | 第73-75页 |
| 4.1.4 不同As(Ⅲ)初始浓度的影响 | 第75-76页 |
| 4.1.5 催化剂的循环使用性能 | 第76页 |
| 4.1.6 常见阴离子的影响 | 第76-78页 |
| 4.1.7 光电协同催化氧化As(Ⅲ) | 第78页 |
| 4.1.8 光催化与光电催化的动力学 | 第78-79页 |
| 4.1.9 不同偏压对光电催化氧化As(Ⅲ)的影响 | 第79-80页 |
| 4.1.10 氧气对光电催化氧化As(Ⅲ)的影响 | 第80-81页 |
| 4.3 本章小结 | 第81-82页 |
| 结论 | 第82-83页 |
| 参考文献 | 第83-89页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第89-92页 |
| 致谢 | 第92页 |