热色变二氧化钒薄膜的可控制备与相变温度调控研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 二氧化钒晶体结构与特征简介 | 第10-13页 |
| 1.3 二氧化钒薄膜相变机理 | 第13-14页 |
| 1.4 二氧化钒薄膜的应用 | 第14-16页 |
| 1.4.1 智能控温节能玻璃 | 第14页 |
| 1.4.2 非制冷红外探测器 | 第14-15页 |
| 1.4.3 脉冲激光保护膜 | 第15页 |
| 1.4.4 光盘介质材料 | 第15-16页 |
| 1.4.5 光电开关 | 第16页 |
| 1.4.6 诱导变色材料 | 第16页 |
| 1.5 影响二氧化钒相变温度的因素 | 第16-19页 |
| 1.5.1 掺杂对二氧化钒薄膜相变温度的影响 | 第16-18页 |
| 1.5.2 微观结构对相变温度的影响 | 第18-19页 |
| 1.5.3 内应力对相变温度的影响 | 第19页 |
| 1.5.4 氧空位对相变温度的影响 | 第19页 |
| 1.6 二氧化钒薄膜的制备 | 第19-24页 |
| 1.6.1 离子束溅射法 | 第20页 |
| 1.6.2 真空蒸发法 | 第20-21页 |
| 1.6.3 脉冲激光沉积法 | 第21页 |
| 1.6.4 磁控溅射法 | 第21-22页 |
| 1.6.5 溶胶凝胶法（Sol-gel） | 第22-24页 |
| 1.7 论文研究意义、内容及方案 | 第24-25页 |
| 1.7.1 研究意义 | 第24页 |
| 1.7.2 研究目的与内容 | 第24页 |
| 1.7.3 研究方案 | 第24-25页 |
| 第二章 实验部分 | 第25-31页 |
| 2.1 实验方案 | 第25页 |
| 2.2 实验材料和设备 | 第25-27页 |
| 2.2.1 实验原料及试剂 | 第25-26页 |
| 2.2.2 主要实验仪器 | 第26-27页 |
| 2.3 表征与测试方法 | 第27-28页 |
| 2.4 实验样品的制备 | 第28-30页 |
| 2.4.1 熔融五氧化二钒水淬制备溶胶凝胶的原理 | 第28页 |
| 2.4.2 掺钨五氧化二钒溶胶凝胶的制备 | 第28页 |
| 2.4.3 玻璃基片的选择与清洗 | 第28-30页 |
| 2.4.4 五氧化二钒薄膜的制备 | 第30页 |
| 2.4.5 退火处理 | 第30页 |
| 2.5 本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章M相二氧化钒薄膜的制备与性能的表征 | 第31-43页 |
| 3.1 掺杂对溶胶稳定性的影响 | 第31-32页 |
| 3.2 退火氧分压对二氧化钒晶体的影响 | 第32-34页 |
| 3.3 保温温度的改变对薄膜各项性能的影响 | 第34-41页 |
| 3.3.1 X射线衍射（XRD）分析 | 第35-36页 |
| 3.3.2 表面形貌分析（FESEM） | 第36-37页 |
| 3.3.3 二氧化钒薄膜光学性能的表征分析 | 第37-40页 |
| 3.3.4 热滞回线分析 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 钨掺杂对二氧化钒薄膜性能的影响 | 第43-53页 |
| 4.1 钨掺杂对二氧化钒薄膜表面形貌的影响 | 第43-45页 |
| 4.2 钨掺杂对VO2薄膜光学性能的影响 | 第45-49页 |
| 4.3 钨掺杂对VO2薄膜相变温度的影响 | 第49-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-53页 |
| 第五章 二次真空退火对薄膜相变温度的影响 | 第53-57页 |
| 5.1 实验方案 | 第53-54页 |
| 5.2 二次真空退火对光学性能及相变温度影响 | 第54-56页 |
| 5.3 本章小结 | 第56-57页 |
| 第六章 结论 | 第57-59页 |
| 6.1 本实验研究的创新点和主要成果 | 第57-58页 |
| 6.2 本实验研究中的问题 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的成果 | 第63页 |
