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SiNWFET装配方法与I-V特性研究

摘要第1-5页
Abstract第5-10页
第一章 引言第10-17页
   ·研究背景第10页
   ·国内外研究进展第10-15页
     ·硅纳米线生长研究进展第11-12页
     ·硅纳米线掺杂研究进展第12-13页
     ·硅纳米线装配研究进展第13-15页
     ·硅纳米线I-V特性研究进展第15页
   ·本文主要工作第15-17页
第二章 金催化剂颗粒尺寸对VLS生长硅纳米线生长温度的影响第17-29页
   ·Au纳米线颗粒尺寸对共熔温度的影响模型第17-21页
     ·熔点与颗粒直径之间的关系模型第18-20页
     ·临界尺寸与表面、内部原子振幅比的确定第20-21页
   ·金颗粒尺寸与熔化温度的关系模型验证第21-22页
   ·金催化剂纳米颗粒尺寸对金硅共熔温度的影响第22-23页
   ·分析与讨论第23-28页
   ·小结第28-29页
第三章 非平衡格林函数仿真第29-53页
   ·非平衡格林函数理论第29-44页
     ·一维弹道SiNWFET仿真第30-31页
     ·三维弹道SiNWFET仿真第31-36页
     ·仿真结果分析与讨论第36-44页
   ·SiNW径向掺杂不均匀情况下的非平衡格林函数仿真第44-52页
     ·掺杂浓度与费米能级关系第44-45页
     ·掺杂浓度径向分布不均匀的仿真处理方法第45-47页
     ·掺杂浓度径向分布对非平衡格林函数仿真的影响第47-48页
     ·仿真结果分析与讨论第48-52页
   ·小结第52-53页
第四章 Spice模型建立和仿真第53-61页
   ·Spice模型建立第53-55页
   ·Spice仿真第55-60页
   ·小结第60-61页
第五章 SiNWFET装配方法第61-65页
   ·装配前处理工序第61-62页
   ·硅纳米线场效应晶体管装配第62-64页
   ·小结第64-65页
第六章 总结与展望第65-67页
   ·总结第65页
   ·展望第65-67页
参考文献第67-71页
致谢第71页

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