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聚酰亚胺薄膜沉积铜铟硒的研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第11-18页
    1.1 CuInSe_2薄膜太阳能电池结构及特点第11-12页
    1.2 CuInSe_2薄膜工艺研究进展及发展前景第12-16页
        1.2.1 CuInSe_2薄膜研究进展第12-16页
        1.2.2 CuInSe_2薄膜发展前景第16页
    1.3 本课题的研究目的及主要内容第16-18页
        1.3.1 本课题的研究目的及选题依据第16页
        1.3.2 本课题的主要研究内容第16-18页
第2章 实验方法及测试手段第18-29页
    2.1 实验设计第18-22页
        2.1.1 实验所需原料及设备第18-19页
        2.1.2 实验方案第19-20页
        2.1.3 实验工艺流程第20-22页
    2.2 实验原理第22-24页
        2.2.1 化学镀镍机理第22-23页
        2.2.2 电沉积铜铟硒机理第23-24页
        2.2.3 光电效应测试机理第24页
    2.3 测试方法第24-28页
        2.3.1 扫描电子显微镜(SEM)及能谱(EDS)分析第25页
        2.3.2 原子力显微镜(AFM)第25页
        2.3.3 原子发射光谱(ICP-AES)分析第25页
        2.3.4 X射线衍射(XRD)分析第25-26页
        2.3.5 X射线光电子光谱(XPS)分析第26页
        2.3.6 拉伸测试第26页
        2.3.7 光电性能测试第26-27页
        2.3.8 紫外-可见光吸收光谱测试第27页
        2.3.9 冷热探针实验第27-28页
    2.4 本章小结第28-29页
第3章 PI薄膜化学镀镍及其性能分析第29-41页
    3.1 PI薄膜化学镀镍最优工艺的确定第29-32页
    3.2 PI薄膜化学镀镍性能测试分析第32-40页
        3.2.1 表面形貌分析第32-35页
        3.2.2 成分与结构分析第35-39页
        3.2.3 结合力强度分析第39-40页
    3.3 本章小结第40-41页
第4章 PI薄膜电沉积CIS及性能分析第41-50页
    4.1 正交实验优化PI薄膜电沉积CIS第41-45页
        4.1.1 正交实验设计及结果第41-43页
        4.1.2 正交实验结果分析第43-45页
    4.2 PI薄膜电沉积CIS性能分析及最优工艺的确定第45-48页
        4.2.1 薄膜成分的分析第45页
        4.2.2 薄膜光学性能的分析第45-46页
        4.2.3 薄膜半导体类型分析第46页
        4.2.4 薄膜XRD结果分析第46-47页
        4.2.5 薄膜光电性能分析第47页
        4.2.6 薄膜XPS结果分析第47-48页
        4.2.7 薄膜表面形貌分析第48页
    4.3 本章小结第48-50页
结论第50-52页
参考文献第52-55页
附录第55-62页
攻读硕士学位期间发表的学术论文第62-63页
致谢第63页

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