摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第11-18页 |
1.1 CuInSe_2薄膜太阳能电池结构及特点 | 第11-12页 |
1.2 CuInSe_2薄膜工艺研究进展及发展前景 | 第12-16页 |
1.2.1 CuInSe_2薄膜研究进展 | 第12-16页 |
1.2.2 CuInSe_2薄膜发展前景 | 第16页 |
1.3 本课题的研究目的及主要内容 | 第16-18页 |
1.3.1 本课题的研究目的及选题依据 | 第16页 |
1.3.2 本课题的主要研究内容 | 第16-18页 |
第2章 实验方法及测试手段 | 第18-29页 |
2.1 实验设计 | 第18-22页 |
2.1.1 实验所需原料及设备 | 第18-19页 |
2.1.2 实验方案 | 第19-20页 |
2.1.3 实验工艺流程 | 第20-22页 |
2.2 实验原理 | 第22-24页 |
2.2.1 化学镀镍机理 | 第22-23页 |
2.2.2 电沉积铜铟硒机理 | 第23-24页 |
2.2.3 光电效应测试机理 | 第24页 |
2.3 测试方法 | 第24-28页 |
2.3.1 扫描电子显微镜(SEM)及能谱(EDS)分析 | 第25页 |
2.3.2 原子力显微镜(AFM) | 第25页 |
2.3.3 原子发射光谱(ICP-AES)分析 | 第25页 |
2.3.4 X射线衍射(XRD)分析 | 第25-26页 |
2.3.5 X射线光电子光谱(XPS)分析 | 第26页 |
2.3.6 拉伸测试 | 第26页 |
2.3.7 光电性能测试 | 第26-27页 |
2.3.8 紫外-可见光吸收光谱测试 | 第27页 |
2.3.9 冷热探针实验 | 第27-28页 |
2.4 本章小结 | 第28-29页 |
第3章 PI薄膜化学镀镍及其性能分析 | 第29-41页 |
3.1 PI薄膜化学镀镍最优工艺的确定 | 第29-32页 |
3.2 PI薄膜化学镀镍性能测试分析 | 第32-40页 |
3.2.1 表面形貌分析 | 第32-35页 |
3.2.2 成分与结构分析 | 第35-39页 |
3.2.3 结合力强度分析 | 第39-40页 |
3.3 本章小结 | 第40-41页 |
第4章 PI薄膜电沉积CIS及性能分析 | 第41-50页 |
4.1 正交实验优化PI薄膜电沉积CIS | 第41-45页 |
4.1.1 正交实验设计及结果 | 第41-43页 |
4.1.2 正交实验结果分析 | 第43-45页 |
4.2 PI薄膜电沉积CIS性能分析及最优工艺的确定 | 第45-48页 |
4.2.1 薄膜成分的分析 | 第45页 |
4.2.2 薄膜光学性能的分析 | 第45-46页 |
4.2.3 薄膜半导体类型分析 | 第46页 |
4.2.4 薄膜XRD结果分析 | 第46-47页 |
4.2.5 薄膜光电性能分析 | 第47页 |
4.2.6 薄膜XPS结果分析 | 第47-48页 |
4.2.7 薄膜表面形貌分析 | 第48页 |
4.3 本章小结 | 第48-50页 |
结论 | 第50-52页 |
参考文献 | 第52-55页 |
附录 | 第55-62页 |
攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第62-63页 |
致谢 | 第63页 |