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非晶材料磁圆二色性与拓扑缺陷致涡旋束的电子显微研究

摘要第3-4页
abstract第4页
第1章 引言第7-27页
    1.1 选题背景及意义第7-8页
    1.2 电子能量损失谱简介第8-10页
    1.3 电子能量损失磁手性二向色性(EMCD)技术简介第10-15页
        1.3.1 EMCD技术的创立第10-11页
        1.3.2 EMCD技术的原理第11-13页
        1.3.3 EMCD技术的加和定则第13-14页
        1.3.4 EMCD技术的样品局限第14-15页
    1.4 电子涡旋束简介第15-21页
        1.4.1 涡旋束的基本特点第15-17页
        1.4.2 电子涡旋束在EMCD技术中的应用第17-18页
        1.4.3 电子涡旋束的产生第18-21页
    1.5 ptychography重构成像技术简介第21-25页
        1.5.1 并行投影算法第22页
        1.5.2 扩展PIE算法第22-24页
        1.5.3 ptychography重构成像实验第24-25页
    1.6 研究目标和内容第25-27页
第2章 非晶材料EMCD测量方法第27-39页
    2.1 非晶材料EMCD实验设计第27-28页
    2.2 非晶样品体系第28-32页
        2.2.1 非晶样品的制备第28-29页
        2.2.2 非晶样品的成分表征第29-30页
        2.2.3 非晶样品的晶型结构表征第30-31页
        2.2.4 非晶样品的宏观磁性能表征第31页
        2.2.5 非晶样品的XMCD信号测量第31-32页
    2.3 非晶样品EMCD信号的获取及分析第32-34页
        2.3.1 非晶样品EMCD信号获取第32-34页
        2.3.2 非晶样品EMCD信号定量分析第34页
    2.4 非晶样品EMCD信号的理论计算第34-38页
        2.4.1 非晶样品EMCD信号的理论推导第34-37页
        2.4.2 非晶样品EMCD信号的计算结果第37-38页
    2.5 本章小结第38-39页
第3章 利用刃位错拓扑缺陷产生电子涡旋束第39-52页
    3.1 刃位错产生电子涡旋束的原理第39-40页
    3.2 电子束照明条件第40-42页
    3.3 NiO刃位错分析第42-44页
        3.3.1 NiO样品的制备方法第42页
        3.3.2 NiO刃位错表征第42页
        3.3.3 NiO刃位错的几何相位分析第42-44页
    3.4 利用NiO刃位错产生电子涡旋束的实验及模拟结果第44-49页
        3.4.1 刃位错的电子衍射第44-46页
        3.4.2 刃位错的连续扫描衍射图样及模拟结果第46-49页
    3.5 利用ptychography算法重构刃位错出射波第49-51页
    3.6 本章小结第51-52页
第4章 中锰钢回火阶段Mn元素的位错通道扩散第52-57页
    4.1 5Mn钢样品制备及实验方法第52-53页
    4.2 铁素体和渗碳体的Mn元素分布第53-54页
    4.3 回火期间位错处的Mn元素富集第54-55页
    4.4 回火期间Mn元素位错通道扩散的原位测定第55-56页
    4.5 本章小结第56-57页
第5章 结论第57-58页
参考文献第58-63页
致谢第63-65页
个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果第65页

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