| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| 1.2 钛合金表面处理技术 | 第10-12页 |
| 1.3 钛合金微弧氧化技术 | 第12-17页 |
| 1.3.1 微弧氧化的基本原理及影响因素 | 第12-15页 |
| 1.3.2 钛合金微弧氧化膜层硬度的研究现状 | 第15-17页 |
| 1.4 选题的目的与意义 | 第17页 |
| 1.5 本课题研究内容 | 第17-19页 |
| 第二章 实验内容与方法 | 第19-26页 |
| 2.1 主盐的优选实验 | 第19-22页 |
| 2.1.1 实验材料与设备 | 第19-20页 |
| 2.1.2 实验方案 | 第20-21页 |
| 2.1.3 膜层性能表征 | 第21-22页 |
| 2.2 电参数的优选实验 | 第22-24页 |
| 2.2.1 实验方案 | 第22-23页 |
| 2.2.2 膜层性能表征 | 第23-24页 |
| 2.3 添加剂的优选实验 | 第24-26页 |
| 2.3.1 实验药品 | 第24页 |
| 2.3.2 实验方案 | 第24-25页 |
| 2.3.3 膜层性能表征 | 第25-26页 |
| 第三章 主盐对TC4微弧氧化膜层相组成及显微硬度的影响 | 第26-40页 |
| 3.1 硅酸盐对TC4微弧氧化的作用 | 第26-30页 |
| 3.1.1 硅酸盐对膜层结构和相组成的影响 | 第26-29页 |
| 3.1.2 硅酸盐对膜层显微硬度的影响 | 第29-30页 |
| 3.2 磷酸盐对TC4微弧氧化的作用 | 第30-33页 |
| 3.2.1 磷酸盐对膜层结构和相组成的影响 | 第30-32页 |
| 3.2.2 磷酸盐对膜层显微硬度的影响 | 第32-33页 |
| 3.3 铝酸盐对TC4微弧氧化的作用 | 第33-36页 |
| 3.3.1 铝酸盐对膜层结构和相组成的影响 | 第33-35页 |
| 3.3.2 铝酸盐对膜层显微硬度的影响 | 第35-36页 |
| 3.4 锆盐对TC4微弧氧化的作用 | 第36-38页 |
| 3.4.1 锆盐对膜层结构和相组成的影响 | 第36-37页 |
| 3.4.2 锆盐对膜层显微硬度的影响 | 第37-38页 |
| 3.5 本章小节 | 第38-40页 |
| 第四章 电参数对TC4微弧氧化膜层微观形貌、相组成及显微硬度的影响 | 第40-51页 |
| 4.1 氧化时间对TC4微弧氧化膜层微观形貌、相组成及显微硬度的影响 | 第40-46页 |
| 4.1.1 TC4微弧氧化膜层生长动力学 | 第40-41页 |
| 4.1.2 氧化时间对TC4微弧氧化膜层微观形貌的影响 | 第41-45页 |
| 4.1.3 氧化时间对TC4微弧氧化膜层相组成的影响 | 第45-46页 |
| 4.1.4 氧化时间对TC4微弧氧化膜层显微硬度的影响 | 第46页 |
| 4.2 氧化电压对TC4微弧氧化膜层微观形貌、相组成及显微硬度的影响 | 第46-49页 |
| 4.2.1 氧化电压对TC4微弧氧化膜层微观形貌的影响 | 第46-48页 |
| 4.2.2 氧化电压对TC4微弧氧化膜层相组成的影响 | 第48-49页 |
| 4.2.3 氧化电压对TC4微弧氧化膜层显微硬度的影响 | 第49页 |
| 4.3 本章小节 | 第49-51页 |
| 第五章 添加剂对TC4微弧氧化膜层微观形貌、相组成及显微硬度的影响 | 第51-58页 |
| 5.1 不同添加剂对TC4微弧氧化膜层表面形貌的影响 | 第52-54页 |
| 5.2 不同添加剂下微弧氧化膜层相组成 | 第54页 |
| 5.3 不同添加剂对微弧氧化膜层显微硬度的影响 | 第54-56页 |
| 5.4 本章小节 | 第56-58页 |
| 结论 | 第58-59页 |
| 展望 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 攻读学位期间取得的研究成果 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |
