| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 引言 | 第10-17页 |
| ·研究目的与意义 | 第10-11页 |
| ·国内外研究进展 | 第11-15页 |
| ·铁磁/金属/铁磁三明治多层膜阻抗的理论研究 | 第11-13页 |
| ·非晶态铁磁合金应力阻抗效应及应用研究 | 第13-15页 |
| ·论文选题依据及研究内容 | 第15-17页 |
| ·选题依据 | 第15-16页 |
| ·研究内容 | 第16-17页 |
| 第二章 铁磁/金属/铁磁多层膜的应力阻抗计算 | 第17-42页 |
| ·多层膜阻抗模型 | 第17-27页 |
| ·应力相关的高频磁导率计算 | 第27-32页 |
| ·多层膜的应力阻抗效应计算 | 第32-41页 |
| ·应力作用下多层膜的阻抗 | 第32-34页 |
| ·中间导电层厚度对应力阻抗效应的影响 | 第34-35页 |
| ·铁磁层厚度对应力阻抗效应的影响 | 第35页 |
| ·中间金属层电导率对应力阻抗效应的影响 | 第35-37页 |
| ·频率对应力阻抗效应的影响 | 第37-38页 |
| ·饱和磁化强度对应力阻抗效应的影响 | 第38-39页 |
| ·磁各向异性对应力阻抗效应的影响 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 第三章 FeCoSiB/Cu/FeCoSiB 多层膜的制备与性能研究 | 第42-53页 |
| ·制备方法 | 第42-45页 |
| ·直流磁控溅射方法 | 第42-44页 |
| ·应力阻抗效应测试 | 第44-45页 |
| ·多层膜的应力阻抗效应 | 第45-51页 |
| ·多层膜的阻抗特性 | 第45-47页 |
| ·导电层厚度对多层膜应力阻抗效应的影响 | 第47-48页 |
| ·铁磁层厚度对多层膜应力阻抗效应的影响 | 第48-49页 |
| ·测试频率对多层膜应力阻抗效应的影响 | 第49-50页 |
| ·不同金属层材料对多层膜应力阻抗效应的影响 | 第50-51页 |
| ·小结 | 第51-53页 |
| 第四章 图形化FeCoSiB/Cu/FeCoSiB 应变片制备与测试 | 第53-60页 |
| ·图形化应变片的制备 | 第53-57页 |
| ·湿法刻蚀方法研究 | 第54-56页 |
| ·剥离方法研究 | 第56-57页 |
| ·图形化单元的应力阻抗特性 | 第57-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第五章 结论 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-66页 |
| 硕士期间取得的研究成果 | 第66-67页 |