| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 全硅叠层太阳电池 | 第8-9页 |
| 1.3 硅量子点薄膜的研究现状 | 第9-14页 |
| 1.3.1 硅量子点薄膜的制备技术 | 第9-11页 |
| 1.3.2 改善硅量子点薄膜特性的方法 | 第11-14页 |
| 1.3.3 硅量子点在太阳电池领域里的应用 | 第14页 |
| 1.4 本论文的研究内容 | 第14-16页 |
| 第二章 实验材料和设备 | 第16-24页 |
| 2.1 样品制备 | 第16页 |
| 2.2 实验耗材 | 第16-17页 |
| 2.3 制样设备 | 第17-21页 |
| 2.4 测试设备 | 第21-24页 |
| 第三章 溅射工艺对碳化硅基硅量子点薄膜性能的研究 | 第24-45页 |
| 3.1 引言 | 第24页 |
| 3.2 不同衬底温度下碳化硅基硅量子点薄膜的制备和特性 | 第24-35页 |
| 3.2.1 实验方法 | 第24-25页 |
| 3.2.2 结果与讨论 | 第25-35页 |
| 3.2.3 小结 | 第35页 |
| 3.3 不同溅射功率下碳化硅基硅量子点薄膜的制备和特性 | 第35-45页 |
| 3.3.1 实验方法 | 第35-36页 |
| 3.3.2 结果与讨论 | 第36-44页 |
| 3.3.3 小结 | 第44-45页 |
| 第四章 退火工艺对碳化硅硅量子点薄膜性能的研究 | 第45-66页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 不同退火温度下碳化硅基硅量子点薄膜的制备和特性 | 第45-56页 |
| 4.2.1 实验方法 | 第45-46页 |
| 4.2.2 结果与讨论 | 第46-55页 |
| 4.2.3 小结 | 第55-56页 |
| 4.3 不同退火方法下碳化硅基硅量子点薄膜的制备和特性 | 第56-66页 |
| 4.3.1 实验方法 | 第56页 |
| 4.3.2 结果与讨论 | 第56-65页 |
| 4.3.3 小结 | 第65-66页 |
| 第五章 总结和展望 | 第66-68页 |
| 5.1 结论 | 第66-67页 |
| 5.2 创新点 | 第67页 |
| 5.3 展望 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-73页 |
| 攻读硕士期间发表的学术论文及专利 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |
