| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 课题背景 | 第9页 |
| 1.2 碳纳米管的结构 | 第9-10页 |
| 1.2.1 碳纳米管分类 | 第9页 |
| 1.2.2 碳纳米管性能 | 第9-10页 |
| 1.3 碳纳米管阵列的制备方法 | 第10-13页 |
| 1.4 碳纳米管阵列国内外的研究现状 | 第13-14页 |
| 1.5 课题研究意义和主要内容 | 第14-15页 |
| 第2章 实验方法及原理 | 第15-23页 |
| 2.1 实验材料及设备 | 第15-16页 |
| 2.1.1 实验材料 | 第15页 |
| 2.1.2 实验设备 | 第15-16页 |
| 2.2 CVD 制备定向碳纳米管阵列原理 | 第16-18页 |
| 2.3 实验方法 | 第18-21页 |
| 2.3.1 石英基底清洗 | 第18页 |
| 2.3.2 图案化基底制作 | 第18-20页 |
| 2.3.3 碳纳米管阵列制备 | 第20-21页 |
| 2.4 碳纳米管阵列表征和性能测试 | 第21-23页 |
| 2.4.1 碳纳米管阵列表征 | 第21-22页 |
| 2.4.2 碳纳米管阵列性能测试 | 第22-23页 |
| 第3章 碳纳米管阵列的可控制备及应用 | 第23-45页 |
| 3.1 引言 | 第23页 |
| 3.2 不同因素对碳纳米管阵列生长的影响 | 第23-37页 |
| 3.2.1 生长温度 | 第23-26页 |
| 3.2.2 氩气流量 | 第26-29页 |
| 3.2.3 催化剂前驱体溶液浓度 | 第29-33页 |
| 3.2.4 催化剂前驱体溶液滴速 | 第33-35页 |
| 3.2.5 生长时间 | 第35-37页 |
| 3.3 石英基底上碳纳米管阵列生长机制分析 | 第37-40页 |
| 3.4 碳纳米管阵列的应用探索 | 第40-45页 |
| 3.4.1 力学性能测试 | 第40-42页 |
| 3.4.2 导电性能测试 | 第42-44页 |
| 3.4.3 吸收性能测试 | 第44-45页 |
| 第4章 图案化基底上碳纳米管阵列生长研究 | 第45-55页 |
| 4.1 Al/Si 图案化基底上制备碳纳米管阵列 | 第45-49页 |
| 4.1.1 生长温度 | 第45-47页 |
| 4.1.2 氩气流量 | 第47-48页 |
| 4.1.3 催化剂前驱体溶液滴速 | 第48-49页 |
| 4.2 Au/Si 图案化基底上制备碳纳米管阵列 | 第49-55页 |
| 4.2.1 生长温度 | 第49-50页 |
| 4.2.2 氩气流量 | 第50-51页 |
| 4.2.3 催化剂前驱体溶液浓度 | 第51页 |
| 4.2.4 催化剂前驱体溶液滴速 | 第51-53页 |
| 4.2.5 Au/Si 基底上碳纳米管阵列生长机制分析 | 第53-55页 |
| 结论 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-61页 |
| 致谢 | 第61页 |