半球谐振子抛光机床UMAC数控系统的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 磁流变抛光设备的国内外研究现状 | 第10-12页 |
| 1.3 开放式数控系统的研究现状 | 第12-14页 |
| 1.3.1 开放式数控系统国内外研究现状 | 第13页 |
| 1.3.2 开放式数控系统结构 | 第13-14页 |
| 1.4 本文的主要研究内容 | 第14-16页 |
| 第2章 数控系统硬件构成与软件开发 | 第16-30页 |
| 2.1 数控系统硬件构成 | 第16-19页 |
| 2.1.1 上位控制机的选择 | 第17-18页 |
| 2.1.2 下位控制机的选择 | 第18页 |
| 2.1.3 伺服驱动系统的配置 | 第18-19页 |
| 2.2 UMAC 运动控制器的功能研究 | 第19-24页 |
| 2.2.1 UMAC 控制变量的研究 | 第20-21页 |
| 2.2.2 UMAC 在线指令的研究 | 第21-22页 |
| 2.2.3 UMAC 二次开发原理 | 第22-24页 |
| 2.3 数控系统软件开发 | 第24-28页 |
| 2.3.1 数控系统软件功能设计 | 第24页 |
| 2.3.2 IPC 与 UMAC 通讯的建立 | 第24-25页 |
| 2.3.3 主窗口界面设计 | 第25-27页 |
| 2.3.4 子窗口界面设计 | 第27-28页 |
| 2.4 本章小结 | 第28-30页 |
| 第3章 伺服系统 PID 参数调节与定位误差补偿 | 第30-44页 |
| 3.1 伺服系统 PID 参数调节与优化 | 第30-35页 |
| 3.1.1 伺服系统 PID 参数的调节原理分析 | 第30-32页 |
| 3.1.2 伺服系统 PID 参数的调节方案确定 | 第32-33页 |
| 3.1.3 伺服系统 PID 参数的调节实验 | 第33-35页 |
| 3.2 伺服系统定位误差补偿 | 第35-43页 |
| 3.2.1 定位误差补偿原理的研究 | 第36-37页 |
| 3.2.2 定位误差测量 | 第37-39页 |
| 3.2.3 定位误差补偿实验 | 第39-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 磁流变抛光数控系统加工试验研究 | 第44-60页 |
| 4.1 半球谐振子抛光路径设计 | 第44-50页 |
| 4.1.1 路径设计方案选择 | 第44-46页 |
| 4.1.2 路径设计实现过程 | 第46-50页 |
| 4.2 半球谐振子抛光轨迹仿真 | 第50-54页 |
| 4.2.1 VERICUT 机床仿真环境构建 | 第51-52页 |
| 4.2.2 毛坯及刀具构建 | 第52页 |
| 4.2.3 系统参数设置及抛光轨迹仿真 | 第52-54页 |
| 4.3 磁流变抛光试验研究 | 第54-59页 |
| 4.3.1 加工试验准备 | 第54-55页 |
| 4.3.2 圆环的磁流变抛光加工试验 | 第55-56页 |
| 4.3.3 不锈钢曲面零件的抛光试验 | 第56-58页 |
| 4.3.4 半球谐振子抛光轨迹验证试验 | 第58-59页 |
| 4.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文及其他成果 | 第66-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
