| 摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 多孔硅概述 | 第13-21页 |
| 1.1.1 多孔硅制备方法概述 | 第14-17页 |
| 1.1.2 多孔硅的形成机理 | 第17-18页 |
| 1.1.3 多孔硅的应用 | 第18-21页 |
| 1.2 超级电容器概述 | 第21-23页 |
| 1.2.1 双电层电容 | 第21-22页 |
| 1.2.2 法拉第准电容 | 第22-23页 |
| 1.2.3 混合型超级电容器 | 第23页 |
| 1.3 课题研究内容及目标 | 第23-25页 |
| 1.3.1 课题研究内容 | 第23-24页 |
| 1.3.2 课题研究目标 | 第24-25页 |
| 第二章 材料制备、结构和性能表征技术 | 第25-35页 |
| 2.1 主要实验设备及原料 | 第25-26页 |
| 2.1.1 主要实验设备 | 第25页 |
| 2.1.2 主要实验原料 | 第25-26页 |
| 2.2 制备方法 | 第26-29页 |
| 2.2.1 硅片清洗 | 第26页 |
| 2.2.2 阳极氧化法制备多孔硅 | 第26-28页 |
| 2.2.3 水热法制备纳米颗粒 | 第28-29页 |
| 2.2.4 磁控溅射生长电极 | 第29页 |
| 2.3 性能表征仪器及方法 | 第29-30页 |
| 2.4 分析仪器及方法 | 第30-35页 |
| 2.4.1 X射线衍射仪 | 第30页 |
| 2.4.2 扫描电子显微镜 | 第30-31页 |
| 2.4.3 紫外可见分光光度仪 | 第31-32页 |
| 2.4.4 光致发光测量仪 | 第32-33页 |
| 2.4.5 电化学测试仪 | 第33-35页 |
| 第三章 多孔硅的制备与性能研究 | 第35-44页 |
| 3.1 引言 | 第35-36页 |
| 3.2 多孔硅的制备 | 第36页 |
| 3.3 多孔硅基本性能研究 | 第36-43页 |
| 3.3.1 多孔硅的表面和截面形貌分析 | 第36-37页 |
| 3.3.2 多孔硅腐蚀厚度和孔隙率的分析与研究 | 第37-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第四章 自支撑多孔硅的制备与性能研究 | 第44-62页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 自支撑多孔硅的制备 | 第44-46页 |
| 4.3 自支撑多孔硅的基本性质 | 第46-54页 |
| 4.3.1 自支撑多孔硅的孔隙率和厚度计算 | 第47页 |
| 4.3.2 腐蚀电流密度对自支撑多孔硅孔隙率和腐蚀厚度的影响的研究 | 第47-51页 |
| 4.3.3 腐蚀时间对自支撑多孔硅孔隙率和腐蚀厚度的影响的研究 | 第51-54页 |
| 4.4 自支撑多孔硅的电学性能 | 第54-55页 |
| 4.5 CdS纳米颗粒填充的自支撑多孔硅的制备与性能研究 | 第55-60页 |
| 4.5.1 CdS纳米颗粒填充的自支撑多孔硅的制备 | 第56-57页 |
| 4.5.2 CdS纳米颗粒填充的自支撑多孔硅的性能研究 | 第57-60页 |
| 4.6 本章小结 | 第60-62页 |
| 第五章 基于自支撑多孔硅的超级电容器 | 第62-70页 |
| 5.1 引言 | 第62页 |
| 5.2 自支撑多孔硅/Zn O复合材料的制备 | 第62-64页 |
| 5.2.1 自支撑多孔硅的制备 | 第62-63页 |
| 5.2.2 ZnO纳米颗粒的制备 | 第63-64页 |
| 5.3 自支撑多孔硅/Zn O复合材料性能研究 | 第64-69页 |
| 5.3.1 自支撑多孔硅/ZnO复合材料表面形貌及截面形貌 | 第64-65页 |
| 5.3.2 自支撑多孔硅/Zn O复合材料的光致发光谱分析 | 第65-66页 |
| 5.3.3 基于自支撑多孔硅/ZnO复合材料的超级电容器特性 | 第66-69页 |
| 5.4 本章小结 | 第69-70页 |
| 第六章 结论与展望 | 第70-72页 |
| 6.1 结论 | 第70-71页 |
| 6.2 展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-79页 |
| 致谢 | 第79-80页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第80页 |
