石墨烯场效应晶体管的制备及其性能研究
| 摘要 | 第9-10页 |
| ABSTRACT | 第10页 |
| 第一章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 石墨烯的结构与性质 | 第12-14页 |
| 1.1.1 电子性质和能带结构 | 第13页 |
| 1.1.2 电荷传输性质 | 第13-14页 |
| 1.1.3 热学性质 | 第14页 |
| 1.1.4 其他性质 | 第14页 |
| 1.2 石墨烯的制备与表征方法 | 第14-18页 |
| 1.2.1 石墨烯的制备方法 | 第14-16页 |
| 1.2.2 石墨烯的表征方法 | 第16-18页 |
| 1.3 石墨烯晶体管的研究进展 | 第18-20页 |
| 1.4 选题依据及研究内容 | 第20-22页 |
| 1.4.1 选题依据 | 第20-21页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 石墨烯晶体管的制备与电学性能测试 | 第22-32页 |
| 2.1 机械剥离法制备石墨烯 | 第22-25页 |
| 2.1.1 衬底的准备 | 第22-23页 |
| 2.1.2 机械剥离 | 第23-24页 |
| 2.1.3 石墨烯的转移 | 第24-25页 |
| 2.1.4 去胶 | 第25页 |
| 2.1.5 石墨烯的表征 | 第25页 |
| 2.2 石墨烯晶体管的制备 | 第25-28页 |
| 2.2.1 旋涂光刻胶 | 第25-26页 |
| 2.2.2 定位、光刻与显影 | 第26-27页 |
| 2.2.3 沉积金属电极 | 第27页 |
| 2.2.4 顶栅晶体管的制备 | 第27-28页 |
| 2.3 石墨烯晶体管的电学性能测试 | 第28-30页 |
| 2.3.1 背栅晶体管的测试 | 第28-30页 |
| 2.3.2 顶栅晶体管的测试 | 第30页 |
| 2.4 本章小结 | 第30-32页 |
| 第三章 顶栅石墨烯晶体管的研究 | 第32-39页 |
| 3.1 石墨烯场效应晶体管的结构 | 第32页 |
| 3.2 石墨烯晶体管的工作机制 | 第32-34页 |
| 3.3 栅氧介质层对器件的影响 | 第34-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第四章 金属石墨烯接触电阻的影响因素研究 | 第39-54页 |
| 4.1 影响接触电阻的因素 | 第39-46页 |
| 4.1.1 镀膜工艺的影响 | 第39-41页 |
| 4.1.2 电极尺寸的影响 | 第41-43页 |
| 4.1.3 金属种类的影响 | 第43-45页 |
| 4.1.4 背栅电压的影响 | 第45-46页 |
| 4.2 石墨烯层数及接触类型对接触电阻的影响 | 第46-50页 |
| 4.3 单层沟道多层接触石墨烯晶体管 | 第50-53页 |
| 4.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 结束语 | 第54-56页 |
| 5.1 全文工作总结 | 第54-55页 |
| 5.2 未来工作展望 | 第55-56页 |
| 致谢 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 作者在学期间取得的学术成果 | 第62页 |
