| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-15页 |
| 1.1 研究背景与意义 | 第9-11页 |
| 1.2 等离激元国内外研究概况 | 第11-13页 |
| 1.3 课题来源及论文主要内容 | 第13-15页 |
| 2 表面等离激元的理论基础 | 第15-30页 |
| 2.1 表面等离激元的特性 | 第15-17页 |
| 2.2 表面等离激元的色散关系 | 第17-20页 |
| 2.3 金属自由电子气模型 | 第20-23页 |
| 2.4 表面等离激元主要的几种激发方式 | 第23-27页 |
| 2.4.1 棱镜耦合 | 第23-25页 |
| 2.4.2 光栅耦合 | 第25-26页 |
| 2.4.3 近场激发和带电粒子轰击 | 第26-27页 |
| 2.5 频域有限差分法模拟技术 | 第27-28页 |
| 2.6 表面等离激元在突破光衍射限中的应用 | 第28-29页 |
| 2.7 本章小结 | 第29-30页 |
| 3 金属纳米周期阵列光学规律的建模与仿真 | 第30-49页 |
| 3.1 金属纳米周期阵列建模 | 第30-31页 |
| 3.2 反射率衡量表面等离激元强度 | 第31-34页 |
| 3.3 影响SPP性质的因素 | 第34-48页 |
| 3.3.1 SPP角度因素 | 第35-37页 |
| 3.3.2 SPP入射频率因素 | 第37-47页 |
| 3.3.3 膜厚对反射率的影响 | 第47-48页 |
| 3.4 本章小结 | 第48-49页 |
| 4 金属纳米周期阵列的设计与制作 | 第49-67页 |
| 4.1 结构设计 | 第49-57页 |
| 4.2 金属纳米结构阵列的制作 | 第57-66页 |
| 4.2.1 切片 | 第57-58页 |
| 4.2.2 镀膜 | 第58-59页 |
| 4.2.3 电子束光刻 (EBL) | 第59页 |
| 4.2.4 离子束刻蚀 (IBE) | 第59-61页 |
| 4.2.5 聚焦离子束 (FIB) | 第61页 |
| 4.2.6 电子束光刻工艺与聚焦离子束微纳加工工艺效果对比 | 第61-66页 |
| 4.3 本章小结 | 第66-67页 |
| 5 光学测试 | 第67-90页 |
| 5.1 显微红外测试 | 第67-77页 |
| 5.2 近场光学测试 | 第77-89页 |
| 5.3 本章小结 | 第89-90页 |
| 6 结论与展望 | 第90-92页 |
| 6.1 研究和创新总结 | 第90-91页 |
| 6.2 未来研究展望 | 第91-92页 |
| 致谢 | 第92-93页 |
| 参考文献 | 第93-98页 |
| 附录1 攻读硕士期间发表的文章及专利 | 第98-99页 |