| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-17页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·ZnO 的基本特性 | 第10-12页 |
| ·ZnO 的结构特性 | 第10-11页 |
| ·ZnO 的电学特性 | 第11-12页 |
| ·ZnO 的光学特性 | 第12页 |
| ·ZnO:Al 薄膜的基本性质 | 第12-15页 |
| ·ZnO:Al 薄膜的结构 | 第12-13页 |
| ·ZnO:Al 薄膜的研究现状及发展趋势 | 第13-14页 |
| l.3.3 本论文的研究背景及意义 | 第14-15页 |
| 参考文献 | 第15-17页 |
| 第二章 ZnO:Al 薄膜制备方法及测试方法 | 第17-32页 |
| ·ZnO:Al 薄膜的制备 | 第17-25页 |
| ·热蒸发法 | 第17页 |
| ·溅射镀膜 | 第17-23页 |
| ·离子束成膜技术 | 第23-24页 |
| ·化学气相沉积 | 第24页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第24-25页 |
| ·溶胶一凝胶法 | 第25页 |
| ·ZnO:Al 薄膜的表征方法 | 第25-29页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第25-26页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第26-27页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第27页 |
| ·光致发光谱（PL） | 第27页 |
| ·紫外分光光度计 | 第27页 |
| ·X 射线光电子能谱（XPS） | 第27-29页 |
| 参考文献 | 第29-32页 |
| 第三章 Al 掺杂浓度对ZnO 薄膜微结构和光学特性的影响 | 第32-39页 |
| ·Al 掺杂浓度对ZnO 薄膜微结构的影响 | 第32-34页 |
| ·Al 掺杂浓度对ZnO 薄膜光学特性的影响 | 第34-35页 |
| ·Al 掺杂对ZnO 薄膜光吸收特性的影响 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-39页 |
| 第四章 衬底和退火时间对Al 掺杂ZnO 薄膜微结构和光学特性的影响 | 第39-46页 |
| ·不同衬底对Al 掺杂ZnO 薄膜微结构的影响 | 第39-41页 |
| ·不同衬底对Al 掺杂ZnO 薄膜光学特性的影响 | 第41页 |
| ·退火时间对Al 掺杂ZnO 薄膜微结构的影响 | 第41-43页 |
| ·退火时间对Al 掺杂ZnO 薄膜光学特性的影响 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-46页 |
| 第五章 总结与展望 | 第46-48页 |
| ·总结 | 第46-47页 |
| ·展望 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 附录:攻读硕士期间发表的论文 | 第49页 |