在“暗线”二维磁光阱中制备高OD冷原子系综
| 摘要 | 第6-7页 |
| Abstract | 第7页 |
| 1 绪论 | 第9-16页 |
| 1.1 激光冷却与囚禁 | 第9-13页 |
| 1.2 光学深度的概念及意义 | 第13-14页 |
| 1.3 光学深度的提高 | 第14-15页 |
| 1.4 本文的意义 | 第15-16页 |
| 2 理论基础 | 第16-23页 |
| 2.1 原子冷却和囚禁 | 第16-19页 |
| 2.1.1 激光冷却 | 第16-17页 |
| 2.1.2 磁光阱 | 第17-19页 |
| 2.2 光学深度 | 第19-23页 |
| 3 Rb~(85)冷原子的制备 | 第23-36页 |
| 3.1 Rb~(85)原子冷却所需条件 | 第23-24页 |
| 3.2 实验条件的准备 | 第24-30页 |
| 3.2.1 真空制备 | 第24-25页 |
| 3.2.2 磁场制备 | 第25页 |
| 3.2.3 激光光源制作 | 第25-27页 |
| 3.2.4 激光器锁频电路 | 第27-28页 |
| 3.2.5 激光放大器的制作 | 第28-30页 |
| 3.3 实验系统搭建 | 第30-33页 |
| 3.3.1 实验光路 | 第30-32页 |
| 3.3.2 磁场和偏振的配合 | 第32-33页 |
| 3.4 制备冷原子 | 第33-36页 |
| 3.4.1 实验时序 | 第33-34页 |
| 3.4.2 测量OD | 第34-36页 |
| 4 “暗线”成像和效果 | 第36-44页 |
| 4.1 暗线原理 | 第36-37页 |
| 4.2 暗线成像 | 第37-39页 |
| 4.3 “暗线”效果 | 第39-44页 |
| 5 总结与展望 | 第44-46页 |
| 参考文献 | 第46-49页 |
| 致谢 | 第49页 |
