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在Si(111)-7×7表面上自组织生长Cd纳米团簇阵列

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 引言第9-16页
    1.1 纳米科技第9-11页
    1.2 低维纳米结构的制备与表征第11-12页
    1.3 纳米团簇第12-13页
    1.4 薄膜生长理论第13-15页
    1.5 本论文的结构与安排第15-16页
第2章 实验技术及原理第16-31页
    2.1 超高真空技术第16-20页
        2.1.1 真空定义第16-17页
        2.1.2 超高真空的获得第17-19页
        2.1.3 超高真空的测量第19-20页
    2.2 分子束外延技术第20-22页
    2.3 低温技术第22-23页
    2.4 扫描隧道显微镜第23-30页
        2.4.1 扫描隧道显微镜的基本原理第23-25页
        2.4.2 扫描隧道显微镜的工作模式第25页
        2.4.3 扫描隧道谱(STS)第25-26页
        2.4.4 针尖的制备与清洁第26-27页
        2.4.5 扫描隧道显微镜基本构造第27-30页
    2.5 实验仪器介绍第30-31页
第3章 在Si(111)-7×7 表面上自组装生长Cd纳米团簇阵列第31-40页
    3.1 背景介绍第31-32页
    3.2 实验部分第32-33页
    3.3 结果与讨论第33-38页
        3.3.1 Si(111)-7×7 重构表面的DAS模型第33-34页
        3.3.2 室温沉积第34-35页
        3.3.3 Cd纳米团簇的稳定结构和电子性质第35-38页
        3.3.4 二维Cd纳米团簇阵列的制备第38页
    3.4 本章小结第38-40页
第4章 结论第40-41页
参考文献第41-48页
致谢第48-49页
硕士期间论文发表情况第49页

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