| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 激光熔覆技术 | 第9-14页 |
| 1.2.1 激光熔覆的工艺方法 | 第10-12页 |
| 1.2.2 激光工艺参数对涂层的影响 | 第12-13页 |
| 1.2.3 激光熔覆金属陶瓷涂层的性能 | 第13-14页 |
| 1.2.4 激光熔覆金属陶瓷技术的应用 | 第14页 |
| 1.3 稀土在金属陶瓷复合涂层中的应用研究现状 | 第14-16页 |
| 1.4 课题研究的主要内容 | 第16-19页 |
| 第2章 实验材料与方法 | 第19-29页 |
| 2.1 实验材料 | 第19-20页 |
| 2.1.1 基体材料及尺寸 | 第19页 |
| 2.1.2 涂层材料 | 第19-20页 |
| 2.2 实验设备及仪器 | 第20-21页 |
| 2.2.1 大功率半导体激光器 | 第20页 |
| 2.2.2 高能球磨机 | 第20-21页 |
| 2.2.3 送粉器 | 第21页 |
| 2.3 激光熔覆过程 | 第21-22页 |
| 2.4 实验测试方法 | 第22-27页 |
| 2.4.1 微观组织及相结构分析 | 第22-24页 |
| 2.4.2 显微硬度测试 | 第24页 |
| 2.4.3 摩擦磨损性能测试 | 第24-25页 |
| 2.4.4 电化学耐腐蚀试验 | 第25-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-29页 |
| 第3章 激光熔覆La_2O_3/WC/Ni复合涂层的基本特征 | 第29-39页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 La_2O_3/WC/Ni金属陶瓷复合涂层的典型形貌 | 第29-30页 |
| 3.3 工艺参数对涂层成型性的影响 | 第30-34页 |
| 3.3.1 激光扫描功率对涂层的影响 | 第30-31页 |
| 3.3.2 激光扫描速度对涂层的影响 | 第31-33页 |
| 3.3.3 送粉率对涂层的影响 | 第33-34页 |
| 3.4 工艺参数对稀释率与浸润角的影响 | 第34-36页 |
| 3.5 本章小结 | 第36-39页 |
| 第4章 稀土La_2O_3含量对WC/Ni涂层组织与性能的影响 | 第39-57页 |
| 4.1 引言 | 第39页 |
| 4.2 实验 | 第39-40页 |
| 4.3 涂层的典型显微组织 | 第40-41页 |
| 4.4 涂层的物相与成分分析 | 第41-44页 |
| 4.5 稀土La_2O_3含量对涂层组织的影响 | 第44-47页 |
| 4.6 稀土La_2O_3含量对WC行为的影响 | 第47-50页 |
| 4.7 稀土La_2O_3含量对涂层性能的影响 | 第50-54页 |
| 4.7.1 稀土La_2O_3含量对涂层硬度的影响 | 第50-51页 |
| 4.7.2 稀土La_2O_3含量对涂层耐磨性的影响 | 第51-52页 |
| 4.7.3 稀土La_2O_3含量对涂层耐腐蚀性的影响 | 第52-54页 |
| 4.8 La_2O_3/WC/Ni金属陶瓷复合涂层激光熔覆实例 | 第54-55页 |
| 4.9 本章小结 | 第55-57页 |
| 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的学术论文 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65页 |
