| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4页 |
| 主要符号对照表 | 第7-8页 |
| 第1章 引言 | 第8-27页 |
| 1.1 纳米科学与纳米技术 | 第8-12页 |
| 1.1.1 纳米科学的起源 | 第8-10页 |
| 1.1.2 纳米科学的发展 | 第10-12页 |
| 1.2 碳纳米管简介 | 第12-19页 |
| 1.2.1 碳纳米管的发现和结构 | 第12-14页 |
| 1.2.2 碳纳米管的性质和应用 | 第14-16页 |
| 1.2.3 超顺排碳纳米管薄膜的制备和应用 | 第16-19页 |
| 1.3 微纳米加工技术的发展和应用 | 第19-25页 |
| 1.3.1 对单个原子的操控技术及其应用 | 第20-22页 |
| 1.3.2 微纳米加工技术 | 第22-24页 |
| 1.3.3 微纳加工技术中的问题 | 第24-25页 |
| 1.4 论文选题思路和主要研究内容 | 第25-27页 |
| 第2章 基于超顺排碳纳米管薄膜的金属网络格栅制备 | 第27-59页 |
| 2.1 本章引论 | 第27-35页 |
| 2.1.1 透明导电材料的原理和应用 | 第27-29页 |
| 2.1.2 透明导电材料及技术现状 | 第29-35页 |
| 2.2 基于超顺排碳纳米管薄膜的刻蚀掩模制备 | 第35-37页 |
| 2.3 金纳米线网络格栅的制备和性能表征 | 第37-50页 |
| 2.3.1 金纳米线网络格栅的制备流程 | 第37-39页 |
| 2.3.2 超顺排碳纳米管薄膜作为刻蚀掩模的有效性证明 | 第39-41页 |
| 2.3.3 金纳米线网络格栅的性能表征 | 第41-45页 |
| 2.3.4 金纳米线网络格栅的形貌修饰和性能改进 | 第45-50页 |
| 2.4 铝和铜纳米线网络格栅的制备和性能表征 | 第50-54页 |
| 2.4.1 铝纳米线网络格栅的制备和表征 | 第50-52页 |
| 2.4.2 铜纳米线网络格栅的制备和表征 | 第52页 |
| 2.4.3 铝和铜纳米线网络格栅的表面形貌修饰 | 第52-54页 |
| 2.5 透明导电材料的柔性测试 | 第54-56页 |
| 2.6 透明导电材料的温度变化测试 | 第56-57页 |
| 2.7 本章小结 | 第57-59页 |
| 第3章 超顺排碳纳米管薄膜在改进LED发光效率上的应用 | 第59-81页 |
| 3.1 引论 | 第59-63页 |
| 3.1.1 半导体照明产业及研究现状 | 第59-61页 |
| 3.1.2 全反射所带来的问题 | 第61-63页 |
| 3.2 利用超顺排碳纳米管薄膜对Ga As材料的表面修饰 | 第63-72页 |
| 3.2.1 牺牲层的引入 | 第63-65页 |
| 3.2.2 Ga As材料表面形貌表征 | 第65-67页 |
| 3.2.3 光致发光谱表征 | 第67-69页 |
| 3.2.4 电致发光谱表征 | 第69-72页 |
| 3.3 利用超顺排碳纳米管薄膜在Ga N材料表面的金属颗粒制备 | 第72-80页 |
| 3.3.1 制备流程 | 第74-75页 |
| 3.3.2 金颗粒形貌表征和分布控制 | 第75-76页 |
| 3.3.3 LED器件制备及性能测试 | 第76-79页 |
| 3.3.4 偏振性能测试 | 第79-80页 |
| 3.4 本章小结 | 第80-81页 |
| 第4章 结论 | 第81-84页 |
| 4.1 研究总结 | 第81-82页 |
| 4.2 研究展望 | 第82-84页 |
| 参考文献 | 第84-90页 |
| 致谢 | 第90-91页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第91-93页 |
