| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 第一章 引言 | 第9-11页 |
| 第二章 文献综述 | 第11-33页 |
| 2.1 ZnO的基本性质 | 第11-15页 |
| 2.1.1 ZnO的晶体结构 | 第11-12页 |
| 2.1.2 ZnO的光电性质 | 第12-14页 |
| 2.1.3 ZnO的其他基本性质 | 第14-15页 |
| 2.2 ZnO的本征缺陷与非故意掺杂 | 第15-17页 |
| 2.2.1 ZnO的本征缺陷 | 第16页 |
| 2.2.2 ZnO的非故意掺杂 | 第16-17页 |
| 2.3 ZnO的氟掺杂 | 第17-24页 |
| 2.3.1 ZnO的n型掺杂 | 第17-19页 |
| 2.3.2 ZnO薄膜氟掺杂的优势 | 第19-21页 |
| 2.3.3 ZnO薄膜氟掺杂的研究现状 | 第21-24页 |
| 2.4 柔性ZnO基透明导电薄膜的研究进展 | 第24-26页 |
| 2.5 ZnO基透明导电薄膜在太阳能电池上的应用 | 第26-31页 |
| 2.5.1 薄膜太阳能电池简介 | 第26-28页 |
| 2.5.2 薄膜太阳能电池中的透明导电氧化物薄膜 | 第28-29页 |
| 3.5.3 绒面ZnO基透明导电薄膜在薄膜太阳能电池上的应用现状 | 第29-31页 |
| 2.6 本论文的选题依据和研究内容 | 第31-33页 |
| 第三章 实验原理、制备工艺及表征技术 | 第33-39页 |
| 3.1 磁控溅射技术 | 第33-36页 |
| 3.1.1 基本原理 | 第33-35页 |
| 3.1.2 磁控溅射设备简介 | 第35-36页 |
| 3.2 实验工艺过程 | 第36-38页 |
| 3.2.1 衬底清洗 | 第36页 |
| 3.2.2 薄膜沉积 | 第36-37页 |
| 3.2.3 湿化学法制绒 | 第37页 |
| 3.2.4 等离子体处理 | 第37-38页 |
| 3.3 薄膜表征技术 | 第38-39页 |
| 第四章 柔性衬底上F掺杂ZnO薄膜的制备及性能标征 | 第39-59页 |
| 4.1 溅射压强对FZO透明导电薄膜性能的影响 | 第39-48页 |
| 4.1.1 溅射压强对FZO薄膜结构性能和表面形貌的影响 | 第39-43页 |
| 4.1.2 溅射压强对FZO薄膜电学性能的影响 | 第43-45页 |
| 4.1.3 溅射压强对FZO薄膜光学性能的影响 | 第45-47页 |
| 4.1.4 溅射压强对FZO薄膜品质因子的影响 | 第47-48页 |
| 4.2 衬底温度对FZO透明导电薄膜性能的影响 | 第48-53页 |
| 4.2.1 衬底温度对FZO薄膜结构性能和表面形貌的影响 | 第48-50页 |
| 4.2.2 衬底温度对FZO薄膜光电性能的影响 | 第50-52页 |
| 4.2.3 衬底温度对FZO薄膜稳定性的影响 | 第52-53页 |
| 4.3 缓冲层对FZO薄膜特性的影响 | 第53-57页 |
| 4.3.1 正交实验参数摸索 | 第53-55页 |
| 4.3.2 ZnO/FZO薄膜与单层FZO薄膜性能对比研究 | 第55-57页 |
| 4.4 本章小结 | 第57-59页 |
| 第五章 绒面FZO薄膜的制备及其在太阳能电池中的应用 | 第59-81页 |
| 5.1 溶液法制备绒面FZO薄膜 | 第59-64页 |
| 5.1.1 沉积参数对薄膜绒面结构的影响 | 第59-62页 |
| 5.1.2 盐酸制得的绒面薄膜分析 | 第62-64页 |
| 5.2 等离子体处理对FZO薄膜性能的影响 | 第64-68页 |
| 5.2.1 H等离子体处理 | 第64-67页 |
| 5.2.2 Ar等离子体处理 | 第67-68页 |
| 5.3 溶液刻蚀法结合Ar/H等离子处理工艺制备绒面FZO薄膜 | 第68-76页 |
| 5.3.1 Ar/H等离子比例对绒面FZO晶体质量和表面形貌的影响 | 第69-74页 |
| 5.3.2 Ar/H等离子比例对绒面FZO光电性能的影响 | 第74-76页 |
| 5.4 绒面FZO薄膜在非晶硅太阳能电池上的应用及性能表现 | 第76-79页 |
| 5.5 本章小结 | 第79-81页 |
| 第六章 总结 | 第81-83页 |
| 参考文献 | 第83-91页 |
| 致谢 | 第91-93页 |
| 个人简历 | 第93-95页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第95页 |
