摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第一章 绪论(X射线散射技术简介) | 第12-18页 |
1.1 X射线散射技术的历史发展 | 第12-14页 |
1.1.1 X射线散射技术的产生 | 第12-13页 |
1.1.2 X射线光源及散射实验的发展 | 第13-14页 |
1.2 X射线散射技术的分类 | 第14-16页 |
1.2.1 非共振弹性X射线散射 | 第15页 |
1.2.2 非共振非弹性X射线散射 | 第15-16页 |
1.2.3 其它非弹性X射线散射 | 第16页 |
1.3 小结 | 第16-18页 |
第二章 X射线散射技术的理论基础和实验方法 | 第18-40页 |
2.1 理论基础 | 第18-20页 |
2.2 实验方法 | 第20-30页 |
2.2.1 实验装置 | 第20-25页 |
2.2.2 形状因子平方的绝对定标 | 第25-27页 |
2.2.3 误差分析 | 第27-30页 |
2.3 实验能谱的拟合 | 第30-33页 |
2.4 高能电子散射的简要介绍 | 第33-39页 |
2.4.1 高能电子散射的理论基础 | 第33-34页 |
2.4.2 高能电子散射实验 | 第34-39页 |
2.5 小结 | 第39-40页 |
第三章 Ar、H_2和N_2的非弹性X射线散射研究 | 第40-66页 |
3.1 时的价壳层激发IXS研究 | 第40-47页 |
3.1.1 现状 | 第40-41页 |
3.1.2 实验测量 | 第41页 |
3.1.3 结果与讨论 | 第41-47页 |
3.1.4 小结 | 第47页 |
3.2 H_2分子价壳层激发态的IXS研究 | 第47-56页 |
3.2.1 现状 | 第48页 |
3.2.2 H_2实验条件及能谱的拟合 | 第48-49页 |
3.2.3 结果与讨论 | 第49-56页 |
3.2.4 小结 | 第56页 |
3.3 N_2分子的价壳层激发IXS研究 | 第56-64页 |
3.3.1 研究现状 | 第57-58页 |
3.3.2 实验测量 | 第58页 |
3.3.3 结果与讨论 | 第58-64页 |
3.3.4 小结 | 第64页 |
3.4 本章总结 | 第64-66页 |
第四章 dipole(γ,γ)方法的提出及CO分子光学振子强度的测定 | 第66-78页 |
4.1 dipole(γ,γ)方法 | 第66-70页 |
4.1.1 dipole(γ,γ)方法的理论基础 | 第66-67页 |
4.1.2 dipole(γ,γ)方法的实验实现 | 第67-68页 |
4.1.3 dipole(γ,γ)方法、光吸收方法和dipole(e,e)方法 | 第68-70页 |
4.2 CO分子光学振子强度的确定 | 第70-75页 |
4.2.1 研究意义及现状 | 第70-71页 |
4.2.2 实验测量 | 第71页 |
4.2.3 结果与讨论 | 第71-75页 |
4.3 小结 | 第75-78页 |
第五章 量子尺度杨氏双缝实验中的动力学 | 第78-88页 |
5.1 简述 | 第78-79页 |
5.2 干涉条纹 | 第79-82页 |
5.2.1 相位差 | 第79-81页 |
5.2.2 独立原子模型近似 | 第81页 |
5.2.3 分子取向平均 | 第81-82页 |
5.2.4 实验结果 | 第82页 |
5.3 反冲效应 | 第82-86页 |
5.4 小结 | 第86-88页 |
第六章 X射线散射谱仪的设计 | 第88-94页 |
6.1 整体设计 | 第88-92页 |
6.2 谱仪硬件设计 | 第92-93页 |
6.3 小结 | 第93-94页 |
总结和展望 | 第94-96页 |
参考文献 | 第96-100页 |
致谢 | 第100-102页 |
在读期间发表的学术论文 | 第102-104页 |