| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第11-15页 |
| 1.3 课题来源及主要研究内容 | 第15页 |
| 1.3.1 课题来源 | 第15页 |
| 1.3.2 主要研究内容 | 第15页 |
| 1.4 本研究的创新点与意义 | 第15-16页 |
| 1.4.1 创新点 | 第15页 |
| 1.4.2 意义 | 第15-16页 |
| 2 再沉积物形成原理分析 | 第16-25页 |
| 2.1 再沉积物的形成原理 | 第16页 |
| 2.2 K9玻璃和熔石英酸蚀过程中质量损失的测定 | 第16-20页 |
| 2.2.1 K9玻璃酸蚀质量损失测定 | 第17-19页 |
| 2.2.2 熔石英酸蚀质量损失测定 | 第19-20页 |
| 2.3 再沉积物形成和传质模型 | 第20-25页 |
| 3 K9玻璃酸蚀前后的材料特性表征 | 第25-40页 |
| 3.1 K9玻璃光学显微镜观察 | 第26-28页 |
| 3.2 K9玻璃的原子力显微镜形貌测试（AFM） | 第28-31页 |
| 3.3 K9玻璃的透过率测试 | 第31-33页 |
| 3.4 K9玻璃表面元素分析 | 第33-38页 |
| 3.4.1 X射线光电子能谱测试分析（XPS） | 第33-35页 |
| 3.4.2 飞行时间二次离子质谱测试分析（TOF-SIMS） | 第35-38页 |
| 3.5 小结 | 第38-40页 |
| 4 熔石英酸蚀前后的材料特性表征 | 第40-72页 |
| 4.1 实验方案 | 第40-41页 |
| 4.2 熔石英光学显微镜观察 | 第41-42页 |
| 4.3 熔石英的原子力显微镜形貌测试（AFM） | 第42-44页 |
| 4.4 熔石英的透过率测试 | 第44-48页 |
| 4.5 熔石英的分子荧光光谱分析测试 | 第48-51页 |
| 4.6 熔石英扫描电镜观察分析（SEM） | 第51-53页 |
| 4.7 熔石英X射线衍射测试分析（XRD） | 第53-54页 |
| 4.8 熔石英本身及在酸蚀过程中表面杂质元素的变化分析 | 第54-70页 |
| 4.8.1 飞行时间二次离子质谱测试（TOF-SIMS） | 第54-68页 |
| 4.8.2 X射线光电子能谱测试（XPS） | 第68-70页 |
| 4.9 小结 | 第70-72页 |
| 5 再沉积物与熔石英激光损伤阈值关系研究 | 第72-80页 |
| 5.1 K9玻璃的基频激光损伤阈值测试 | 第72-75页 |
| 5.2 熔石英的三倍频激光损伤阈值测试 | 第75-78页 |
| 5.2.1 长时间蚀刻后的熔石英损伤阈值 | 第75-76页 |
| 5.2.2 不同酸浓度及洗涤方式对熔石英损伤阈值的影响 | 第76-78页 |
| 5.3 小结 | 第78-80页 |
| 结论 | 第80-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 附录 | 第83-91页 |
| 附表 1：K9-1/15-70玻璃试片的实验条件和平均质量损失记录 | 第83-85页 |
| 附表 2：K9-1/15-700玻璃试片的实验条件和平均质量损失记录 | 第85-86页 |
| 附表 3：FS-1/15-700玻璃试片的实验条件和平均质量损失记录 | 第86-88页 |
| 附表 4：测试或实验仪器信息及测试试样制备 | 第88-90页 |
| 附图 1：“再沉积物形成和传质模型”计算所用软件截图 | 第90-91页 |
| 参考文献 | 第91-95页 |
| 攻读硕士期间发表的论文及研究成果 | 第95页 |
