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P型栅极高电子迁移率晶体管可靠性研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第9-16页
    1.1 氮化镓材料特性第9-11页
    1.2 氮化镓功率器件产业现状第11-15页
    1.3 本论文主要的研究内容和工作第15-16页
第2章 增强型AIGaN/GaN HEMT研究现状第16-36页
    2.1 增强型AlGaN/GaN HEMT主要实现方法第16-29页
    2.2 P型栅极AlGaN/GaN HEMT可靠性研究进展第29-34页
    2.3 本章小结第34-36页
第3章 P型栅极AlGaN/GaN HEMT可靠性测试第36-54页
    3.1 P型栅极AlGaN/GaN HEMT栅压应力下沟道调制研究第36-48页
    3.2 P型栅极AlGaN/GaN HEMT栅压应力下性能退化研究第48-52页
    3.3 本章小结第52-54页
第4章 论文结论与研究展望第54-56页
    4.1 论文结论第54-55页
    4.2 研究展望第55-56页
参考文献第56-59页
攻读硕士期间论文与专利成果第59-60页
致谢第60页

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