基于全息聚合材料(PQ/PMMA)中光致动态效应的深层次学习
摘要 | 第3-4页 |
ABSTRACT | 第4页 |
1 绪论 | 第7-17页 |
1.1 课题背景及意义 | 第7-8页 |
1.2 光致聚合物简介 | 第8-10页 |
1.2.1 光致聚合物的组成 | 第8页 |
1.2.2 光致聚合物的种类 | 第8-10页 |
1.3 PQ/PMMA的研究进展 | 第10-11页 |
1.4 光致聚合物的扩散模型研究进展 | 第11-15页 |
1.5 本文研究内容 | 第15-16页 |
1.6 本章小结 | 第16-17页 |
2 PQ/PMMA的理论研究 | 第17-24页 |
2.1 PQ/PMMA材料的制备 | 第17-18页 |
2.2 聚合速率的变化 | 第18-19页 |
2.3 全息记录的原理 | 第19-21页 |
2.3.1 全息记录的实验装置 | 第19-20页 |
2.3.2 全息光栅形成的原理 | 第20-21页 |
2.4 光化学反应机制 | 第21-23页 |
2.5 本章小结 | 第23-24页 |
3 扩散模型 | 第24-33页 |
3.1 数学模型 | 第24-25页 |
3.2 模型的建立 | 第25-27页 |
3.3 全息性能参数 | 第27-28页 |
3.4 模型的求解 | 第28-31页 |
3.5 体积分数与折射指数 | 第31-32页 |
3.6 本章小结 | 第32-33页 |
4 仿真与实验 | 第33-51页 |
4.1 组分的仿真 | 第33-41页 |
4.1.1 光敏剂PQ分子 | 第33-35页 |
4.1.2 激发态~1PQ~*、~3PQ~* | 第35-36页 |
4.1.3 自由基R | 第36-38页 |
4.1.4 光产物 | 第38-41页 |
4.2 折射效率的表现与分析 | 第41-50页 |
4.2.1 折射指数的分布 | 第41-42页 |
4.2.2 曝光强度对折射指数的影响 | 第42-43页 |
4.2.3 光敏剂扩散率对折射指数的影响 | 第43-46页 |
4.2.4 空间频率响应 | 第46-49页 |
4.2.5 曝光强度对折射指数的实验拟合 | 第49-50页 |
4.3 本章小结 | 第50-51页 |
5 结论与展望 | 第51-52页 |
致谢 | 第52-53页 |
参考文献 | 第53-59页 |
附录 | 第59页 |