| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·重金属废水处理方法 | 第11-13页 |
| ·化学沉淀法 | 第11-12页 |
| ·离子交换法 | 第12页 |
| ·电解法 | 第12-13页 |
| ·吸附法 | 第13页 |
| ·重金属离子吸附剂的种类 | 第13-16页 |
| ·腐殖酸类吸附材料 | 第13-14页 |
| ·矿物吸附材料 | 第14页 |
| ·碳类吸附材料 | 第14-15页 |
| ·高分子吸附材料 | 第15页 |
| ·生物吸附材料 | 第15-16页 |
| ·介孔SiO2吸附材料 | 第16页 |
| ·有机—无机杂化介孔硅 | 第16-21页 |
| ·制备方法 | 第17-19页 |
| ·形成机理 | 第19-20页 |
| ·应用 | 第20-21页 |
| ·本课题的研究内容和意义 | 第21-23页 |
| ·研究意义 | 第21-22页 |
| ·研究内容 | 第22页 |
| ·创新点 | 第22页 |
| ·课题来源 | 第22-23页 |
| 第二章 CTAB/PAANa为模板剂制备桥连双亚胺化介孔硅材料 | 第23-37页 |
| ·引言 | 第23-24页 |
| ·实验部分 | 第24-28页 |
| ·实验试剂 | 第24-25页 |
| ·实验设备和仪器 | 第25页 |
| ·双亚胺基桥连硅烷偶联剂的制备 | 第25-26页 |
| ·CTAB/PAANa/PMOS材料的合成 | 第26-27页 |
| ·主要表征方法 | 第27-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-35页 |
| ·2,6-二甲酰基4甲基苯酚（DFP）的表征 | 第28-29页 |
| ·桥连双亚胺基硅烷偶联剂的表征 | 第29-31页 |
| ·CTAB/PAANa/PMOS材料的表征 | 第31-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 CTAB/PAANa/PMOS材料对Cd(II)、Cu(II)、Cr(VI)的吸附性能 | 第37-53页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·实验部分 | 第37-41页 |
| ·选择性吸附实验 | 第37-38页 |
| ·单因素吸附实验 | 第38页 |
| ·吸附热力学 | 第38-39页 |
| ·吸附动力学 | 第39-40页 |
| ·解吸和重复性实验 | 第40-41页 |
| ·主要测试方法 | 第41页 |
| ·结果与讨论 | 第41-52页 |
| ·选择吸附实验 | 第41页 |
| ·单因素吸附实验 | 第41-44页 |
| ·吸附热力学分析 | 第44-50页 |
| ·吸附动力学分析 | 第50-51页 |
| ·重复性实验 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第四章 DDA为模板剂制备桥连双亚胺介孔硅材料 | 第53-61页 |
| ·引言 | 第53页 |
| ·实验部分 | 第53-54页 |
| ·DDA/PMOS的合成 | 第53-54页 |
| ·主要表征方法 | 第54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-60页 |
| ·FT IR分析 | 第54-55页 |
| ·~(29)Si固体核磁分析 | 第55-56页 |
| ·X射线粉末衍射分析 | 第56-57页 |
| ·N2吸附/脱附分析 | 第57-58页 |
| ·扫描电镜分析 | 第58-59页 |
| ·透射电镜分析 | 第59-60页 |
| ·本章小结 | 第60-61页 |
| 第五章 DDA/PMOS材料对重金属离子的吸附性能 | 第61-71页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·实验部分 | 第61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-70页 |
| ·选择吸附实验 | 第61-62页 |
| ·单因素吸附实验 | 第62-64页 |
| ·吸附热力学分析 | 第64-68页 |
| ·吸附动力学分析 | 第68-70页 |
| ·重复性实验 | 第70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第六章 结论与展望 | 第71-73页 |
| ·结论 | 第71-72页 |
| ·展望 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-80页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第80-81页 |
| 附件 | 第81-82页 |
