大尺寸金刚石膜制备的研究
| 中文摘要 | 第1-3页 |
| ABSTRACT | 第3-6页 |
| 第1章 绪论 | 第6-11页 |
| ·天然金刚石的结构 | 第6-8页 |
| ·天然金刚石的性质和应用 | 第8-11页 |
| ·力学性质和应用 | 第8页 |
| ·热学性质和应用 | 第8-9页 |
| ·光学性质和应用 | 第9页 |
| ·电学性质和应用 | 第9页 |
| ·声学性质和应用 | 第9页 |
| ·化学性质和应用 | 第9-11页 |
| 第2章 人工合成金刚石 | 第11-19页 |
| ·人工合成金刚石的发展 | 第11-13页 |
| ·HPHT法的发展 | 第11-12页 |
| ·CVD法的发展 | 第12-13页 |
| ·CVD法 | 第13-17页 |
| ·CVD法的生长原理 | 第13-14页 |
| ·几种常见的CVD法 | 第14-17页 |
| ·论文的选题和主要内容 | 第17-19页 |
| 第3章P-CVD法合成金刚石膜 | 第19-24页 |
| ·P-CVD法 | 第19-21页 |
| ·P-CVD法的设备 | 第19-20页 |
| ·P-CVD法的生长机理 | 第20-21页 |
| ·间歇式P-CVD法 | 第21页 |
| ·金刚石膜的测试和表征 | 第21-24页 |
| ·RAMAN | 第21-22页 |
| ·SEM | 第22页 |
| ·XRD | 第22-24页 |
| 第4章 合成条件对金刚石膜的影响 | 第24-40页 |
| ·温度对金刚石膜的影响 | 第24-30页 |
| ·实验方法和步骤 | 第24-27页 |
| ·实验分析和讨论 | 第27-30页 |
| ·“H:C”对金刚石膜的影响 | 第30-39页 |
| ·实验方法和步骤 | 第31页 |
| ·实验分析和讨论 | 第31-39页 |
| ·本章小结 | 第39-40页 |
| 第5章 基底尺寸对金刚石膜的影响 | 第40-53页 |
| ·基底尺寸对形核的影响 | 第40-45页 |
| ·实验方法和步骤 | 第40-41页 |
| ·实验分析和讨论 | 第41-45页 |
| ·基底尺寸对生长的影响 | 第45-52页 |
| ·实验方法和步骤 | 第45-46页 |
| ·实验分析和讨论 | 第46-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第6章 较高品质金刚石膜的合成 | 第53-63页 |
| ·下方的Mo基底合成金刚石膜 | 第53-58页 |
| ·实验方法和步骤 | 第53-54页 |
| ·实验分析和讨论 | 第54-58页 |
| ·Mo基底直接合成金刚石膜 | 第58-61页 |
| ·实验方法和步骤 | 第58页 |
| ·实验分析和讨论 | 第58-59页 |
| ·调低“H:C” | 第59-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第7章 全文总结 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第71-72页 |
