| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-23页 |
| ·纳米材料的简介 | 第10-11页 |
| ·WO_3纳米材料 | 第11-15页 |
| ·纳米 WO_3的晶体结构与理化性质 | 第11-12页 |
| ·纳米 WO_3的分类 | 第12-14页 |
| ·纳米 WO_3的制备方法 | 第14-15页 |
| ·纳米 WO_3的应用之一——光催化 | 第15-18页 |
| ·光催化的简介 | 第15页 |
| ·光催化的装置 | 第15-16页 |
| ·光催化的基本原理 | 第16-17页 |
| ·纳米 WO_3光催化的发展现状 | 第17-18页 |
| ·纳米 WO_3的应用之二——气敏传感器 | 第18-21页 |
| ·气敏传感器的简介 | 第18-19页 |
| ·气敏传感器的分类 | 第19页 |
| ·气敏传感器的应用 | 第19-20页 |
| ·纳米 WO_3气敏传感器的发展现状 | 第20-21页 |
| ·本文研究意义及主要内容 | 第21-23页 |
| ·选题依据与研究意义 | 第21页 |
| ·本文研究的内容及取得的成果 | 第21-23页 |
| 第二章 单斜晶型 WO_3纳米片的制备、表征及光催化活性研究 | 第23-37页 |
| ·实验部分 | 第23-25页 |
| ·实验试剂及主要仪器 | 第23-24页 |
| ·m-WO_3纳米片的制备 | 第24页 |
| ·m-WO_3纳米片的表征 | 第24-25页 |
| ·m-WO_3纳米片的光催化活性测试 | 第25页 |
| ·结果与讨论 | 第25-35页 |
| ·m-WO_3纳米片的 XRD 分析 | 第25页 |
| ·m-WO_3纳米片的 SEM 和 TEM 分析 | 第25-26页 |
| ·m-WO_3纳米片的形成机理 | 第26-29页 |
| ·m-WO_3纳米片的光学性能 | 第29-30页 |
| ·m-WO_3纳米片的光催化活性测试 | 第30-33页 |
| ·m-WO_3纳米片的光催化机制 | 第33-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第三章 温度和酸度对 WO_3纳米结构的影响及 WO_3纳米片的气敏性能 | 第37-54页 |
| ·实验部分 | 第37-39页 |
| ·WO_3纳米结构的合成 | 第37-38页 |
| ·WO_3纳米结构的表征 | 第38页 |
| ·WO_3气敏传感器的制备和测试 | 第38-39页 |
| ·HNO_3用量、水热温度和反应时间对 WO_3物相和形貌的影响 | 第39-46页 |
| ·120 ℃水热温度下制得产物的 XRD 分析 | 第39页 |
| ·120 ℃水热温度下制得产物的 SEM 分析 | 第39-41页 |
| ·180 ℃水热温度下制得产物的 XRD 分析 | 第41-42页 |
| ·180 ℃水热温度下制得产物的 SEM 分析 | 第42-43页 |
| ·180 ℃下加入 10.0 mL HNO_3制得产物的 TEM 分析 | 第43页 |
| ·水热温度和 HNO_3量对产物物相和形貌的影响分析 | 第43-44页 |
| ·水热时间对产物物相和形貌的影响分析 | 第44-46页 |
| ·WO_3纳米片的形成机理分析 | 第46-47页 |
| ·WO_3纳米片的气敏性能测试 | 第47-52页 |
| ·煅烧后 WO_3样品的 XRD 分析 | 第47页 |
| ·煅烧后 WO_3样品的 SEM 分析 | 第47-49页 |
| ·煅烧后 WO_3样品的气敏性能测试 | 第49-52页 |
| ·WO_3样品对丙酮气体的传感机理 | 第52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-63页 |
| 发表论文和科研情况说明 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
