| 中文摘要 | 第1-4页 |
| 英文摘要 | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 序言 | 第8-29页 |
| ·光催化化学 | 第8-9页 |
| ·半导体光催化化学 | 第9-15页 |
| ·半导体的能带结构 | 第9-10页 |
| ·半导体光催化反应基本过程 | 第10-11页 |
| ·半导体光催化基本原理 | 第11-12页 |
| ·光催化反应动力学 | 第12-13页 |
| ·半导体光催化研究现状 | 第13-15页 |
| ·多金属氧酸盐光催化化学 | 第15-25页 |
| ·多金属氧酸盐概述 | 第15-17页 |
| ·多金属氧酸盐光催化基本原理 | 第17-19页 |
| ·多金属氧酸盐光催化化学的应用 | 第19-21页 |
| ·多金属氧酸盐光催化化学反应机理研究现状 | 第21-22页 |
| ·非水溶性多金属氧酸盐简介 | 第22-25页 |
| ·多金属氧酸盐与半导体型氧化物光催化活性的比较 | 第25-27页 |
| ·论文的选题及意义 | 第27-29页 |
| 第二章 三维有序大孔XW_(11)-TiO_2杂化材料的制备、表征及光催化应用 | 第29-44页 |
| ·三维有序大孔XW11-TiO_2 杂化材料的制备与表征 | 第29-34页 |
| ·实验部分 | 第29-30页 |
| ·结果与讨论 | 第30-34页 |
| ·三维有序大孔XW_(11)-TiO_2 杂化材料光催化性能研究 | 第34-44页 |
| ·实验部分 | 第34-35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-44页 |
| 第三章 三维有序大孔XMo_(11)-SiO_2 杂化材料的制备及表征 | 第44-50页 |
| ·三维有序大孔XMo_(11)-SiO_2杂化材料的制备与表征 | 第44-48页 |
| ·实验部分 | 第44-45页 |
| ·结果与讨论 | 第45-48页 |
| ·三维有序大孔XMO_(11)-SiO_2杂化材料吸附性能研究 | 第48-50页 |
| ·实验部分 | 第48-49页 |
| ·结果与讨论 | 第49-50页 |
| 第四章 1:11 Keggin 结构杂多钨酸盐-氧化物大孔复合膜的制备、表征及光催化应用 | 第50-59页 |
| ·大孔复合膜的制备与表征 | 第50-54页 |
| ·实验部分 | 第50-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-54页 |
| ·大孔复合膜的光催化性能研究 | 第54-59页 |
| ·实验部分 | 第54-55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-59页 |
| 第五章 介孔结构单取代Keggin结构杂多钨酸盐修饰的Ti02杂化材料的制备、表征及光催化应用 | 第59-72页 |
| ·介孔TiO_2-APS-PW11M 杂化材料的制备与表征 | 第59-63页 |
| ·实验部分 | 第59页 |
| ·结果与讨论 | 第59-63页 |
| ·介孔TiO_2-APS-PW_(11)M 杂化材料光催化性能研究 | 第63-72页 |
| ·实验部分 | 第63-64页 |
| ·结果与讨论 | 第64-72页 |
| 第六章 H_3PW_(12)O_(40)-TiO_2纳米孔状杂化材料的制备、表征及在可见光下催化降解有机染料 | 第72-84页 |
| ·纳米孔状H_3PW_(12)O_(40)-TiO_2杂化材料的制备与表征 | 第72-76页 |
| ·实验部分 | 第72页 |
| ·结果与讨论 | 第72-76页 |
| ·纳米孔状H_3PW_(12)O_(40)-TiO_2杂化材料可见光催化性能研究 | 第76-84页 |
| ·实验部分 | 第76-78页 |
| ·结果与讨论 | 第78-84页 |
| 结论 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-98页 |
| 致谢 | 第98-99页 |
| 在学期间公开发表论文 | 第99-100页 |
