| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 文献综述 | 第11-26页 |
| ·引言 | 第11页 |
| ·高纯非导体材料中杂质元素的检测方法 | 第11-16页 |
| ·难溶非导体材料中杂质的检测方法 | 第11-14页 |
| ·易溶非导体材料中杂质的检测方法 | 第14-16页 |
| ·氧化铝中杂质的检测现状 | 第16-17页 |
| ·高纯氧化镧和氧化钇中杂质的检测现状 | 第17-18页 |
| ·直流辉光放电质谱分析的研究现状 | 第18-25页 |
| ·直流辉光放电质谱法原理 | 第18-19页 |
| ·直流辉光放电质谱仪 | 第19-21页 |
| ·直流辉光放电质谱法分析导电材料 | 第21-22页 |
| ·辉光放电质谱法分析非导体材料 | 第22-25页 |
| ·本文的研究目的及意义 | 第25-26页 |
| 2 直流辉光放电质谱法测定氧化铝粉末中杂质含量 | 第26-46页 |
| ·实验仪器、试剂与材料 | 第26页 |
| ·第二阴极法 | 第26-29页 |
| ·实验方法 | 第26页 |
| ·实验结果与讨论 | 第26-29页 |
| ·氧化铝粉末与高纯铟块压片法 | 第29-31页 |
| ·实验方法 | 第29-30页 |
| ·实验结果与讨论 | 第30-31页 |
| ·氧化铝粉末与石墨粉混合法 | 第31-34页 |
| ·实验方法 | 第31页 |
| ·实验结果与讨论 | 第31-34页 |
| ·氧化铝粉末与铜粉混合法 | 第34-44页 |
| ·样品的制备及实验方法 | 第34页 |
| ·仪器的工作条件 | 第34-35页 |
| ·放电条件的选择 | 第35-38页 |
| ·压片条件的选择 | 第38-39页 |
| ·待测元素同位素及分辨率的选择 | 第39-41页 |
| ·实验数据处理 | 第41-42页 |
| ·检出限与相对标准偏差 | 第42页 |
| ·准确度 | 第42-44页 |
| ·方法小结 | 第44-46页 |
| 3 直流辉光放电质谱法测定高纯氧化镧粉末中杂质元素含量 | 第46-57页 |
| ·实验仪器、试剂与材料 | 第46页 |
| ·样品制备及实验方法 | 第46页 |
| ·仪器工作条件 | 第46-47页 |
| ·辉光放电条件和压片条件的选择 | 第47-51页 |
| ·放电条件的选择 | 第47-50页 |
| ·压片条件的选择 | 第50-51页 |
| ·待测元素同位素及分辨率的选择 | 第51-52页 |
| ·结果与讨论 | 第52-55页 |
| ·实验数据处理 | 第52-53页 |
| ·检出限与相对标准偏差 | 第53页 |
| ·准确度 | 第53-55页 |
| ·方法小结 | 第55-57页 |
| 4 直流辉光放电质谱法测定氧化钇粉末中杂质元素含量 | 第57-72页 |
| ·实验仪器、试剂与材料 | 第57页 |
| ·高纯氧化钇粉末中杂质元素的半定量分析 | 第57-67页 |
| ·实验方法 | 第57-58页 |
| ·仪器工作条件 | 第58页 |
| ·放电条件的选择 | 第58-63页 |
| ·待测元素同位素及分辨率的选择 | 第63-64页 |
| ·结果与讨论 | 第64-67页 |
| ·高纯氧化钇粉末中杂质含量的定量分析 | 第67-70页 |
| ·实验方法 | 第67-68页 |
| ·结果与讨论 | 第68-70页 |
| ·方法小结 | 第70-72页 |
| 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-80页 |
| 附录 高纯氧化镧粉末中铈含量的测定 | 第80-84页 |
| 攻读硕士学位期间取得的学术成果 | 第84-85页 |
| 致谢 | 第85页 |